Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Discharge-pumped xuv source (Annual Gaseous Electronics Conference/69./.

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F61389021%3A_____%2F16%3A00467175" target="_blank" >RIV/61389021:_____/16:00467175 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Discharge-pumped xuv source (Annual Gaseous Electronics Conference/69./.

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Předneseno na konferenci: APS Gaseous Electronics Conference 2016,Bochum, 10-14.10.2016, str. 55poster, Bulletin of the American Physical Society, vol.61,9/2016,nWe have built two experimental devices (CAPEX and CAPEX-U) as XUV sources, which are based on the fast capillary discharge. On both these devices we have observed lasing at 46.9 nm (Ne-like Ar line). At present a pinching plasma column of nitrogen-filled capillary discharge is also studied in our department for the development of XUV (soft X-ray) lasers, which are based on recombination pumping scheme. In this paper the recent results obtained from both these discharge systems (argon-, nitrogen-filled capillaries) will be presented.n

  • Název v anglickém jazyce

    Discharge-pumped xuv source (Annual Gaseous Electronics Conference/69./.

  • Popis výsledku anglicky

    Předneseno na konferenci: APS Gaseous Electronics Conference 2016,Bochum, 10-14.10.2016, str. 55poster, Bulletin of the American Physical Society, vol.61,9/2016,nWe have built two experimental devices (CAPEX and CAPEX-U) as XUV sources, which are based on the fast capillary discharge. On both these devices we have observed lasing at 46.9 nm (Ne-like Ar line). At present a pinching plasma column of nitrogen-filled capillary discharge is also studied in our department for the development of XUV (soft X-ray) lasers, which are based on recombination pumping scheme. In this paper the recent results obtained from both these discharge systems (argon-, nitrogen-filled capillaries) will be presented.n

Klasifikace

  • Druh

    O - Ostatní výsledky

  • CEP obor

    BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

  • Návaznosti

    I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2016

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů