Modeling of XUV-induced damage in Ru films: the role of model parameters

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F61389021%3A_____%2F18%3A00500189" target="_blank" >RIV/61389021:_____/18:00500189 - isvavai.cz</a>

Nalezeny alternativní kódy

RIV/68378271:_____/18:00495050

Výsledek na webu

<a href="http://bib-pubdb1.desy.de/record/410525/files/josab-35-10-B43.pdf" target="_blank" >http://bib-pubdb1.desy.de/record/410525/files/josab-35-10-B43.pdf</a>

DOI - Digital Object Identifier

<a href="http://dx.doi.org/10.1364/JOSAB.35.000B43" target="_blank" >10.1364/JOSAB.35.000B43</a>

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Modeling of XUV-induced damage in Ru films: the role of model parameters

Popis výsledku v původním jazyce

We perform a computational study of damage formation in extreme ultraviolet (XUV)-irradiated ruthenium thin films by means of combining the Monte Carlo approach with the two-temperature model. The model predicts that the damage formation is most affected by ultrafast heating of the lattice by hot electrons, and is not very sensitive to the initial stage of the material excitation. Numerical parameters of the model were analyzed, as well as different approximations for the thermal parameters, showing the importance of the temperature dependence of the electron thermal conductivity and the electron-phonon coupling factor. Our analysis reveals that the details of photoabsorption and ultrafast non-equilibrium electron kinetics play only a minor role in the XUV irradiation regime.

Název v anglickém jazyce

Modeling of XUV-induced damage in Ru films: the role of model parameters

Popis výsledku anglicky

We perform a computational study of damage formation in extreme ultraviolet (XUV)-irradiated ruthenium thin films by means of combining the Monte Carlo approach with the two-temperature model. The model predicts that the damage formation is most affected by ultrafast heating of the lattice by hot electrons, and is not very sensitive to the initial stage of the material excitation. Numerical parameters of the model were analyzed, as well as different approximations for the thermal parameters, showing the importance of the temperature dependence of the electron thermal conductivity and the electron-phonon coupling factor. Our analysis reveals that the details of photoabsorption and ultrafast non-equilibrium electron kinetics play only a minor role in the XUV irradiation regime.

Druh

J_imp - Článek v periodiku v databázi Web of Science

CEP obor

—

OECD FORD obor

10306 - Optics (including laser optics and quantum optics)

Projekt

Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

Návaznosti

I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Rok uplatnění

2018

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Journal of the Optical Society of America. B

ISSN

0740-3224

e-ISSN

—

Svazek periodika

35

Číslo periodika v rámci svazku

10

Stát vydavatele periodika

US - Spojené státy americké

Počet stran výsledku

11

Strana od-do

"B43"-"B53"

Kód UT WoS článku

000446000500006

EID výsledku v databázi Scopus

2-s2.0-85054513797