Damage mechanisms of MoN/SiN multilayer optics for next-generation pulsed XUV light sources

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F11%3A00359322" target="_blank" >RIV/68378271:_____/11:00359322 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

<a href="http://dx.doi.org/10.1364/OE.19.000193" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1364/OE.19.000193</a>

DOI - Digital Object Identifier

<a href="http://dx.doi.org/10.1364/OE.19.000193" target="_blank" >10.1364/OE.19.000193</a>

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Damage mechanisms of MoN/SiN multilayer optics for next-generation pulsed XUV light sources

Popis výsledku v původním jazyce

We investigated the damage mechanism of MoN/SiN multilayer XUV optics under two extreme conditions: thermal annealing and irradiation with single shot intense XUV pulses from the free-electron laser facility in Hamburg - FLASH. The damage was studied "post-mortem" by means of X-ray diffraction, interference-polarizing optical microscopy, atomic force microscopy, and scanning transmission electron microscopy. Although the timescale of the damage processes and the damage threshold temperatures were different (in the case of annealing it was the dissociation temperature of Mo2N and in the case of XUV irradiation it was the melting temperature of MoN) the main damage mechanism is very similar: molecular dissociation and the formation of N-2, leading to bubbles inside the multilayer structure.

Název v anglickém jazyce

Damage mechanisms of MoN/SiN multilayer optics for next-generation pulsed XUV light sources

Popis výsledku anglicky

We investigated the damage mechanism of MoN/SiN multilayer XUV optics under two extreme conditions: thermal annealing and irradiation with single shot intense XUV pulses from the free-electron laser facility in Hamburg - FLASH. The damage was studied "post-mortem" by means of X-ray diffraction, interference-polarizing optical microscopy, atomic force microscopy, and scanning transmission electron microscopy. Although the timescale of the damage processes and the damage threshold temperatures were different (in the case of annealing it was the dissociation temperature of Mo2N and in the case of XUV irradiation it was the melting temperature of MoN) the main damage mechanism is very similar: molecular dissociation and the formation of N-2, leading to bubbles inside the multilayer structure.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BH - Optika, masery a lasery

OECD FORD obor

—

Projekt

Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2011

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Optics Express

ISSN

1094-4087

e-ISSN

—

Svazek periodika

19

Číslo periodika v rámci svazku

1

Stát vydavatele periodika

US - Spojené státy americké

Počet stran výsledku

13

Strana od-do

193-205

Kód UT WoS článku

000285915300031

EID výsledku v databázi Scopus

—