Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Single shot damage mechanism of Mo/Si multilayer optics under intense pulsed XUV-exposure

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F10%3A00342469" target="_blank" >RIV/68378271:_____/10:00342469 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Single shot damage mechanism of Mo/Si multilayer optics under intense pulsed XUV-exposure

  • Popis výsledku v původním jazyce

    We investigated single shot damage of Mo/Si multilayer coatings exposed to the intense fs XUV radiation at the Free-electron LASer facility in Hamburg - FLASH. The interaction process was studied in situ by XUV reflectometry, time resolved optical microscopy, and "post-mortem" by interference-polarizing optical microscopy (with Nomarski contrast), atomic force microscopy, and scanning transmission electron microcopy. An ultrafast molybdenum silicide formation due to enhanced atomic diffusion in melted silicon has been determined to be the key process in the damage mechanism. The influence of the energy diffusion on the damage process was estimated. The results are of significance for the design of multilayer optics for a new generation of pulsed (fromatto- to nanosecond) XUV sources.

  • Název v anglickém jazyce

    Single shot damage mechanism of Mo/Si multilayer optics under intense pulsed XUV-exposure

  • Popis výsledku anglicky

    We investigated single shot damage of Mo/Si multilayer coatings exposed to the intense fs XUV radiation at the Free-electron LASer facility in Hamburg - FLASH. The interaction process was studied in situ by XUV reflectometry, time resolved optical microscopy, and "post-mortem" by interference-polarizing optical microscopy (with Nomarski contrast), atomic force microscopy, and scanning transmission electron microcopy. An ultrafast molybdenum silicide formation due to enhanced atomic diffusion in melted silicon has been determined to be the key process in the damage mechanism. The influence of the energy diffusion on the damage process was estimated. The results are of significance for the design of multilayer optics for a new generation of pulsed (fromatto- to nanosecond) XUV sources.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    BH - Optika, masery a lasery

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2010

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Optics Express

  • ISSN

    1094-4087

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    18

  • Číslo periodika v rámci svazku

    2

  • Stát vydavatele periodika

    US - Spojené státy americké

  • Počet stran výsledku

    13

  • Strana od-do

  • Kód UT WoS článku

    000273860400032

  • EID výsledku v databázi Scopus