Damage studies of multilayer optics for XUV free electron lasers

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F09%3A00335976" target="_blank" >RIV/68378271:_____/09:00335976 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Damage studies of multilayer optics for XUV free electron lasers

Popis výsledku v původním jazyce

We exposed standard Mo/Si multilayer coatings, optimized for 13.5 nm radiation to the intense femtosecond XUV radiation at the FLASH free electron laser facility at intensities below and above the multilayer ablation threshold. The interaction process was studied in-situ with reflectometry and time resolved optical microscopy, and ex-situ with optical microscopy (Nomarski), atomic force microscopy and high resolution transmission electron microscopy. From analysis of the size of the observed craters asa function of the pulse energy the threshold for irreversible damage of the multilayer could be determined to be 45 mJ/cm2. The damage occurs on a longer time scale than the XUV pulse and even above the damage threshold XUV reflectance has been observedshowing no measurable loss up to a power density of 1013 W/cm2. A first explanation of the physics mechanism leading to damage is given.

Název v anglickém jazyce

Damage studies of multilayer optics for XUV free electron lasers

Popis výsledku anglicky

We exposed standard Mo/Si multilayer coatings, optimized for 13.5 nm radiation to the intense femtosecond XUV radiation at the FLASH free electron laser facility at intensities below and above the multilayer ablation threshold. The interaction process was studied in-situ with reflectometry and time resolved optical microscopy, and ex-situ with optical microscopy (Nomarski), atomic force microscopy and high resolution transmission electron microscopy. From analysis of the size of the observed craters asa function of the pulse energy the threshold for irreversible damage of the multilayer could be determined to be 45 mJ/cm2. The damage occurs on a longer time scale than the XUV pulse and even above the damage threshold XUV reflectance has been observedshowing no measurable loss up to a power density of 1013 W/cm2. A first explanation of the physics mechanism leading to damage is given.

Druh

D - Stať ve sborníku

CEP obor

BH - Optika, masery a lasery

OECD FORD obor

—

Projekt

Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2009

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku

Damage to VUV, EUV, and X-ray Optics II

ISBN

9780819476357

ISSN

—

e-ISSN

—

Počet stran výsledku

6

Strana od-do

—

Název nakladatele

SPIE

Místo vydání

Bellingham

Místo konání akce

Prague

Datum konání akce

21. 4. 2009

Typ akce podle státní příslušnosti

WRD - Celosvětová akce

Kód UT WoS článku

—