Laser wakefield accelerator driven by the super-Gaussian laser beam in the focus
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F61389021%3A_____%2F20%3A00541082" target="_blank" >RIV/61389021:_____/20:00541082 - isvavai.cz</a>
Nalezeny alternativní kódy
RIV/68407700:21340/20:00347641
Výsledek na webu
<a href="https://iopscience.iop.org/article/10.1088/1361-6587/ab57ee" target="_blank" >https://iopscience.iop.org/article/10.1088/1361-6587/ab57ee</a>
DOI - Digital Object Identifier
<a href="http://dx.doi.org/10.1088/1361-6587/ab57ee" target="_blank" >10.1088/1361-6587/ab57ee</a>
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Laser wakefield accelerator driven by the super-Gaussian laser beam in the focus
Popis výsledku v původním jazyce
The injection process is one of the most crucial attributes that determine the final properties of the electron bunch in laser wakefield accelerators. Here, a new injection method is proposed and studied via particle-in-cell simulations for the typical parameters of the bubble regime. The injection is triggered by the laser beam that reaches the super-Gaussian profile in the focus. Such a beam undergoes rapid variations in its intensity distribution during the diffraction process. If this diffraction occurs in underdense plasma, consequent changes in the bubble structure activate a localized transverse injection process. The generated electron bunch is characterized by the short duration (∼2 fs) and low transverse emittance (≤1 mm mrad) while maintaining relatively high charge (∼0.2 nC).
Název v anglickém jazyce
Laser wakefield accelerator driven by the super-Gaussian laser beam in the focus
Popis výsledku anglicky
The injection process is one of the most crucial attributes that determine the final properties of the electron bunch in laser wakefield accelerators. Here, a new injection method is proposed and studied via particle-in-cell simulations for the typical parameters of the bubble regime. The injection is triggered by the laser beam that reaches the super-Gaussian profile in the focus. Such a beam undergoes rapid variations in its intensity distribution during the diffraction process. If this diffraction occurs in underdense plasma, consequent changes in the bubble structure activate a localized transverse injection process. The generated electron bunch is characterized by the short duration (∼2 fs) and low transverse emittance (≤1 mm mrad) while maintaining relatively high charge (∼0.2 nC).
Klasifikace
Druh
J<sub>imp</sub> - Článek v periodiku v databázi Web of Science
CEP obor
—
OECD FORD obor
10306 - Optics (including laser optics and quantum optics)
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/EF16_019%2F0000778" target="_blank" >EF16_019/0000778: Centrum pokročilých aplikovaných přírodních věd</a><br>
Návaznosti
I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace
Ostatní
Rok uplatnění
2020
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Plasma Physics and Controlled Fusion
ISSN
0741-3335
e-ISSN
—
Svazek periodika
62
Číslo periodika v rámci svazku
2
Stát vydavatele periodika
GB - Spojené království Velké Británie a Severního Irska
Počet stran výsledku
9
Strana od-do
024005
Kód UT WoS článku
000537378100001
EID výsledku v databázi Scopus
2-s2.0-85081344287