Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Surface plasmon polaritons at linearly graded semiconductor interfaces

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F61989100%3A27640%2F15%3A86095605" target="_blank" >RIV/61989100:27640/15:86095605 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

    <a href="http://dx.doi.org/10.1364/OE.23.006264" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1364/OE.23.006264</a>

  • DOI - Digital Object Identifier

    <a href="http://dx.doi.org/10.1364/OE.23.006264" target="_blank" >10.1364/OE.23.006264</a>

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Surface plasmon polaritons at linearly graded semiconductor interfaces

  • Popis výsledku v původním jazyce

    New results are reported on investigation of dispersion curves for surface plasmon polaritons (SPPs) at an inhomogenously doped semiconductor/dielectric interface whereby the dielectric is represented by the same undoped semiconductor. The doped semiconductor is described by its frequency-dependent permittivity that varies with the depth. It is shown that a transition layer (TL) with a linear change in carrier concentration supports one branch dispersion curve regardless of the TL thickness. The obtained dispersion curves reach a maximum at a finite frequency depending on the TL thickness, and subsequently asymptotically approach the zero frequency in the shortwave limit. Therefore two surface plasmon modes are supported at a given frequency: a long-wave mode with a positive group velocity and a short-wave mode with a negative group velocity. A condition of a zero group velocity can be satisfied by tuning the TL layer. It is shown that the conventional dispersion relation for SPPs at a

  • Název v anglickém jazyce

    Surface plasmon polaritons at linearly graded semiconductor interfaces

  • Popis výsledku anglicky

    New results are reported on investigation of dispersion curves for surface plasmon polaritons (SPPs) at an inhomogenously doped semiconductor/dielectric interface whereby the dielectric is represented by the same undoped semiconductor. The doped semiconductor is described by its frequency-dependent permittivity that varies with the depth. It is shown that a transition layer (TL) with a linear change in carrier concentration supports one branch dispersion curve regardless of the TL thickness. The obtained dispersion curves reach a maximum at a finite frequency depending on the TL thickness, and subsequently asymptotically approach the zero frequency in the shortwave limit. Therefore two surface plasmon modes are supported at a given frequency: a long-wave mode with a positive group velocity and a short-wave mode with a negative group velocity. A condition of a zero group velocity can be satisfied by tuning the TL layer. It is shown that the conventional dispersion relation for SPPs at a

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    BH - Optika, masery a lasery

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2015

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    OPTICS EXPRESS

  • ISSN

    1094-4087

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    23

  • Číslo periodika v rámci svazku

    5

  • Stát vydavatele periodika

    US - Spojené státy americké

  • Počet stran výsledku

    13

  • Strana od-do

    6264-6276

  • Kód UT WoS článku

    000350878500076

  • EID výsledku v databázi Scopus