Způsob depozice nanočástic kovů na povrch substrátu

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F61989592%3A15310%2F12%3A33143593" target="_blank" >RIV/61989592:15310/12:33143593 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

<a href="http://spisy.upv.cz/Patents/FullDocuments/303/303566.pdf" target="_blank" >http://spisy.upv.cz/Patents/FullDocuments/303/303566.pdf</a>

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

čeština

Název v původním jazyce

Způsob depozice nanočástic kovů na povrch substrátu

Popis výsledku v původním jazyce

Depozice nanočástic kovů na povrch substrátu je založena na aktivaci povrchu substrátu nízkoteplotním plazmatem za pokojové teploty na vzduchu s následnou depozicí nanočástic kovů ponořením substrátu do vodné nebo nevodné suspenze nanočástic kovůa odpařením kapaliny po vyjmutí substrátu ze suspenze. PODSTATA VYNÁLEZU Uvedeného cíle je dosaženo vynálezem, kterým je způsob depozice nanočástic kovů na povrch substrátu, spočívající v tom, že nanočástice kovů jsou na povrch substrátu předem opracovaného nízkoteplotním plazmatem při pokojové teplotěa za atmosférického tlaku nanášeny jejich ponořením do vodné nebo nevodné suspenze nanočástic kovů s následným odpařením kapaliny. Dále je podstatou vynálezu, že nanočástice kovů deponované na povrchu substrátu předem opracovaného nízkoteplotním plazmatem jsou organizovány do 2D (dvourozměrné) struktury. Je rovněž podstatou vynálezu, že doba opracování povrchu substrátu nízkoteplotním plazmatem prostřednictvím změny smáčivosti tohoto povrchu ovliv

Název v anglickém jazyce

The method of deposition of metal nanoparticles on the substrate surface

Popis výsledku anglicky

Deposition of metal nanoparticles on substrate surface is based on the activation of the substrate surface low pressure plasma at room temperature in air with subsequent deposition of nanoparticles kovůponořením substrate in an aqueous or non-aqueous suspension of metal nanoparticles by evaporation liquid after removing the substrate from the suspension. SUMMARY OF THE INVENTION Above mentioned objective is achieved by the invention which is a method of deposition of metal nanoparticles on the surface of a substrate, consisting in the procedure in which the metal nanoparticles are deposited on pre-oxidized substrate surface by low pressure plasma at room temperature and ambient atmospheric pressure. Metal nanoparticles are deposited onto the substrátesurface by immersion in an aqueous or non-aqueous suspension with subsequent evaporation of the liquid. It is the essence of the invention, the nanoparticles of metals are deposited on the substrate surface which has been oxidized by low-

Druh

P - Patent

CEP obor

CF - Fyzikální chemie a teoretická chemie

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/ED2.1.00%2F03.0058" target="_blank" >ED2.1.00/03.0058: Regionální centrum pokročilých technologií a materiálů</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2012

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Číslo patentu nebo vzoru

303566

Vydavatel

CZ001 -

Název vydavatele

Industrial Property Office

Místo vydání

Prague

Stát vydání

CZ - Česká republika

Datum přijetí

31. 10. 2012

Název vlastníka

Univerzita Palackého v Olomouci

Způsob využití

A - Výsledek využívá pouze poskytovatel

Druh možnosti využití

A - K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence