IČ laserově iniciovaný proces pro chemickou deposici polyselenokarbosilanových filmů z plynné fáze
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F67985858%3A_____%2F06%3A00049444" target="_blank" >RIV/67985858:_____/06:00049444 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
IR Laser-Induced Process for Chemical Vapor Deposition of Polyselenocarbosilane Films
Popis výsledku v původním jazyce
TEA CO2 laser irradiation into gaseous mixtures of 1,3-disilacyclobutane and dimethyl selenide results in infrared multiple photon-induced, non-interacting homogeneous decompositions of both educts, one yielding silene (H2Si=CH2) and the other elementalselenium as major products. The reaction between polymerizing silene and agglomerizing Se leads to chemical vapor deposition of novel polyselenocarbosilane films which are unstable in atmosphere. The laser induced co-decomposition represents a new process in allowing (i) reaction between thermally generated transient and element (ii) and chemical vapor deposition of the product of this reaction.
Název v anglickém jazyce
IR Laser-Induced Process for Chemical Vapor Deposition of Polyselenocarbosilane Films
Popis výsledku anglicky
TEA CO2 laser irradiation into gaseous mixtures of 1,3-disilacyclobutane and dimethyl selenide results in infrared multiple photon-induced, non-interacting homogeneous decompositions of both educts, one yielding silene (H2Si=CH2) and the other elementalselenium as major products. The reaction between polymerizing silene and agglomerizing Se leads to chemical vapor deposition of novel polyselenocarbosilane films which are unstable in atmosphere. The laser induced co-decomposition represents a new process in allowing (i) reaction between thermally generated transient and element (ii) and chemical vapor deposition of the product of this reaction.
Klasifikace
Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
CH - Jaderná a kvantová chemie, fotochemie
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/ME%20684" target="_blank" >ME 684: Laserově a atomy Cl iniciovaná deposice nových polykarbosilazanů z plynné fáze</a><br>
Návaznosti
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Ostatní
Rok uplatnění
2006
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Journal of Analytical and Applied Pyrolysis
ISSN
0165-2370
e-ISSN
—
Svazek periodika
76
Číslo periodika v rámci svazku
1-2
Stát vydavatele periodika
NL - Nizozemsko
Počet stran výsledku
8
Strana od-do
178-185
Kód UT WoS článku
—
EID výsledku v databázi Scopus
—