Possibilities of laser recrystallization and laser ablation in thin-layer structures based on a-Si:H
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F67985858%3A_____%2F20%3A00540759" target="_blank" >RIV/67985858:_____/20:00540759 - isvavai.cz</a>
Nalezeny alternativní kódy
RIV/68378271:_____/20:00540759
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Possibilities of laser recrystallization and laser ablation in thin-layer structures based on a-Si:H
Popis výsledku v původním jazyce
Our goal is to enhance optoelectronic properties and light conversion efficiency in hydrogenated silicon thin films by in-situ embedded nanoparticles using radio frequency chemical vapor deposition (RF CVD) combined with other methods such as molecular beam epitaxy, magnetron sputtering, Langmuir/Blodgett method, reactive deposition epitaxy, laser surface treatment, laser ablation, reactive laser ablation, vacuum evaporation and plasma treatment.
Název v anglickém jazyce
Possibilities of laser recrystallization and laser ablation in thin-layer structures based on a-Si:H
Popis výsledku anglicky
Our goal is to enhance optoelectronic properties and light conversion efficiency in hydrogenated silicon thin films by in-situ embedded nanoparticles using radio frequency chemical vapor deposition (RF CVD) combined with other methods such as molecular beam epitaxy, magnetron sputtering, Langmuir/Blodgett method, reactive deposition epitaxy, laser surface treatment, laser ablation, reactive laser ablation, vacuum evaporation and plasma treatment.
Klasifikace
Druh
O - Ostatní výsledky
CEP obor
—
OECD FORD obor
10302 - Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)
Návaznosti výsledku
Projekt
Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.
Návaznosti
I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace
Ostatní
Rok uplatnění
2020
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů