Multiple beam interference lithography: A tool for rapid fabrication of plasmonic arrays of arbitrary shaped nanomotifs
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F67985882%3A_____%2F16%3A00469282" target="_blank" >RIV/67985882:_____/16:00469282 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
<a href="http://dx.doi.org/10.1364/OE.24.015656" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1364/OE.24.015656</a>
DOI - Digital Object Identifier
<a href="http://dx.doi.org/10.1364/OE.24.015656" target="_blank" >10.1364/OE.24.015656</a>
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Multiple beam interference lithography: A tool for rapid fabrication of plasmonic arrays of arbitrary shaped nanomotifs
Popis výsledku v původním jazyce
A novel method enabling rapid fabrication of 2D periodic arrays of plasmonic nanoparticles across large areas is presented. This method is based on the interference of multiple coherent beams originating from diffraction of large-diameter collimated beam on a transmission phase mask. Mutual orientation of the interfering beams is determined by parameters of the used phase mask. Herein, parameters of the phase mask (periods and modulation depth) are selected to yield an interference pattern with high contrast and narrow well- separated maxima. Finally, multiple beam interference lithography (MBIL)-based fabrication of periodic plasmonic arrays with selected nanomotifs including discs, disc dimers, rods and bowtie antennas is demonstrated
Název v anglickém jazyce
Multiple beam interference lithography: A tool for rapid fabrication of plasmonic arrays of arbitrary shaped nanomotifs
Popis výsledku anglicky
A novel method enabling rapid fabrication of 2D periodic arrays of plasmonic nanoparticles across large areas is presented. This method is based on the interference of multiple coherent beams originating from diffraction of large-diameter collimated beam on a transmission phase mask. Mutual orientation of the interfering beams is determined by parameters of the used phase mask. Herein, parameters of the phase mask (periods and modulation depth) are selected to yield an interference pattern with high contrast and narrow well- separated maxima. Finally, multiple beam interference lithography (MBIL)-based fabrication of periodic plasmonic arrays with selected nanomotifs including discs, disc dimers, rods and bowtie antennas is demonstrated
Klasifikace
Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/GBP205%2F12%2FG118" target="_blank" >GBP205/12/G118: Nanobiofotonika pro medicínu budoucnosti</a><br>
Návaznosti
I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace
Ostatní
Rok uplatnění
2016
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Optics Express
ISSN
1094-4087
e-ISSN
—
Svazek periodika
24
Číslo periodika v rámci svazku
14
Stát vydavatele periodika
US - Spojené státy americké
Počet stran výsledku
10
Strana od-do
15656-15665
Kód UT WoS článku
000381770500060
EID výsledku v databázi Scopus
2-s2.0-84979657658