Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Determination of proximity effect forward scattering range parameter in e-beam lithography

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68081731%3A_____%2F10%3A00350671" target="_blank" >RIV/68081731:_____/10:00350671 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Determination of proximity effect forward scattering range parameter in e-beam lithography

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Electron beam lithography (EBL) is a tool for generation patterns with high resolution, so it is necesessary to control critical dimensions of created patterns, because the undesired influence of adjacent regions to those exposed can occur due to the proximity effect. Proximity effect is often described by two Gaussian function, where .alpha. represents forward scattering range parameter. Consequently, we present evaluation of proximity parameter .alpha. by various method in this paper.

  • Název v anglickém jazyce

    Determination of proximity effect forward scattering range parameter in e-beam lithography

  • Popis výsledku anglicky

    Electron beam lithography (EBL) is a tool for generation patterns with high resolution, so it is necesessary to control critical dimensions of created patterns, because the undesired influence of adjacent regions to those exposed can occur due to the proximity effect. Proximity effect is often described by two Gaussian function, where .alpha. represents forward scattering range parameter. Consequently, we present evaluation of proximity parameter .alpha. by various method in this paper.

Klasifikace

  • Druh

    D - Stať ve sborníku

  • CEP obor

    JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

  • Návaznosti

    Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2010

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název statě ve sborníku

    Proceedings of the 12th International Seminar on Recent Trends in Charged Particle Optics and Surface Physics Instrumentation

  • ISBN

    978-80-254-6842-5

  • ISSN

  • e-ISSN

  • Počet stran výsledku

    2

  • Strana od-do

  • Název nakladatele

    Institute of Scientific Instruments AS CR, v.v.i

  • Místo vydání

    Brno

  • Místo konání akce

    Skalský dvůr

  • Datum konání akce

    31. 5. 2010

  • Typ akce podle státní příslušnosti

    WRD - Celosvětová akce

  • Kód UT WoS článku