Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Our first step to direct writing XUV lithography(SPPT 24th.,2010)

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68081731%3A_____%2F10%3A00352880" target="_blank" >RIV/68081731:_____/10:00352880 - isvavai.cz</a>

  • Nalezeny alternativní kódy

    RIV/61389021:_____/10:00352880

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Our first step to direct writing XUV lithography(SPPT 24th.,2010)

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Předneseno na konf.:24th Symposium on Plasma Physics and Technology,Prague,14-17.06.2010, : A "direct (i.e. ablation) patterning" of PMMA by pulse Ar8+ ion laser ( = 46,9 nm) was demonstrated. For focusing a long-focal spherical mirror (R = 2100 mm) covered by 14 double-layer Sc-Si coating was used. On the bottom of ablated crater a laser-induced periodic surface structure (LIPSS) with period 2,8 m and depth 5-10 nm was revealed. Through much smaller quadratic hole (7,5x7,5 m) in mask standing in contact with PMMA the 2D diffraction pattern with period down to 125 nm and depth 200 nm was ablated by a 5-shot-exposition.

  • Název v anglickém jazyce

    Our first step to direct writing XUV lithography(SPPT 24th.,2010)

  • Popis výsledku anglicky

    Předneseno na konf.:24th Symposium on Plasma Physics and Technology,Prague,14-17.06.2010, : A "direct (i.e. ablation) patterning" of PMMA by pulse Ar8+ ion laser ( = 46,9 nm) was demonstrated. For focusing a long-focal spherical mirror (R = 2100 mm) covered by 14 double-layer Sc-Si coating was used. On the bottom of ablated crater a laser-induced periodic surface structure (LIPSS) with period 2,8 m and depth 5-10 nm was revealed. Through much smaller quadratic hole (7,5x7,5 m) in mask standing in contact with PMMA the 2D diffraction pattern with period down to 125 nm and depth 200 nm was ablated by a 5-shot-exposition.

Klasifikace

  • Druh

    O - Ostatní výsledky

  • CEP obor

    BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2010

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů