Imaging of SiCN thin films on silicon substrate in the scanning low energy electron microscope
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68081731%3A_____%2F12%3A00386447" target="_blank" >RIV/68081731:_____/12:00386447 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Imaging of SiCN thin films on silicon substrate in the scanning low energy electron microscope
Popis výsledku v původním jazyce
The Si-C-N materials have been attracting growing interest due to their excellent physical properties. They are hard, possess a large band gap, resist harsh and high temperature environments, and exhibit interesting nanostrucrures such as turbosrtatic-carbon and nanopores. Their range of application includes anti-erosive turbines and cutting tools, opto-electronic materials, sensors and special drug delivery pharamaceutical products. Most of their interesting properties stems from carbon-nitrogen bonds.Hence, Si-C-N materials with a high content of carbon and nitrogen are of interest. Up to date, the highest carbon and nitrogen content could be synthesised in SiC2N4 and Si2CN4. Both chemical compositions are stable and possess the highest achieved carbon-nitrogen bond. Two different nitride bonding configuration was measured to be present.
Název v anglickém jazyce
Imaging of SiCN thin films on silicon substrate in the scanning low energy electron microscope
Popis výsledku anglicky
The Si-C-N materials have been attracting growing interest due to their excellent physical properties. They are hard, possess a large band gap, resist harsh and high temperature environments, and exhibit interesting nanostrucrures such as turbosrtatic-carbon and nanopores. Their range of application includes anti-erosive turbines and cutting tools, opto-electronic materials, sensors and special drug delivery pharamaceutical products. Most of their interesting properties stems from carbon-nitrogen bonds.Hence, Si-C-N materials with a high content of carbon and nitrogen are of interest. Up to date, the highest carbon and nitrogen content could be synthesised in SiC2N4 and Si2CN4. Both chemical compositions are stable and possess the highest achieved carbon-nitrogen bond. Two different nitride bonding configuration was measured to be present.
Klasifikace
Druh
D - Stať ve sborníku
CEP obor
JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
—
Návaznosti
I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace
Ostatní
Rok uplatnění
2012
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název statě ve sborníku
Physic and Nanoscale. (Proceedings of the 10th IUVSTA International Summer School )
ISBN
978-80-260-0619-0
ISSN
—
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
1
Strana od-do
—
Název nakladatele
IOP AS CR
Místo vydání
Praha
Místo konání akce
Devět skal
Datum konání akce
30. 5. 2012
Typ akce podle státní příslušnosti
EUR - Evropská akce
Kód UT WoS článku
—