SMV-2015-14: Technologie elektronové litografie
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68081731%3A_____%2F15%3A00453004" target="_blank" >RIV/68081731:_____/15:00453004 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
čeština
Název v původním jazyce
SMV-2015-14: Technologie elektronové litografie
Popis výsledku v původním jazyce
Výzkum a vývoj v oblasti přístrojového vybavení pro elektronovou litografii. Výzkum zahrnuje celý litografický systém, zejména elektronové emitéry Schottky ZrO/W, elektronovou optiku se systémem tvarování svazku, X-Y pohybový mechanismus, vakuový systém,napájecí a řídící elektroniku.
Název v anglickém jazyce
SMV-2015-14: Development of e-beam lithography technology
Popis výsledku anglicky
Development of the devices for electron beam lithography technology. Research and development cover the complete lithography system, in particular Schottky Zro/W electron emitter, electron optical column including beam forming system, X-Y stage, high vacuum system, control system electronics.
Klasifikace
Druh
V<sub>souhrn</sub> - Souhrnná výzkumná zpráva
CEP obor
BH - Optika, masery a lasery
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
—
Návaznosti
N - Vyzkumna aktivita podporovana z neverejnych zdroju
Ostatní
Rok uplatnění
2015
Kód důvěrnosti údajů
C - Předmět řešení projektu podléhá obchodnímu tajemství (§ 504 Občanského zákoníku), ale název projektu, cíle projektu a u ukončeného nebo zastaveného projektu zhodnocení výsledku řešení projektu (údaje P03, P04, P15, P19, P29, PN8) dodané do CEP, jsou upraveny tak, aby byly zveřejnitelné.
Údaje specifické pro druh výsledku
Počet stran výsledku
4
Místo vydání
Brno
Název nakladatele resp. objednatele
Optaglio s.r.o
Verze
—