Large-area gray-scale structures in e-beam writer versus area current homogeneity and deflection uniformity

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68081731%3A_____%2F16%3A00460202" target="_blank" >RIV/68081731:_____/16:00460202 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

<a href="http://www.trends.isibrno.cz/" target="_blank" >http://www.trends.isibrno.cz/</a>

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Large-area gray-scale structures in e-beam writer versus area current homogeneity and deflection uniformity

Popis výsledku v původním jazyce

The high stability and good current homogeneity in the spot of the e-beam writer is crucial to the exposure quality, particularly in the case of large-area structures when gray-scale lithography is used. Even though the deflection field distortion is calibrated regularly and beam focus and beam astigmatism is dynamically corrected over the entire deflection field,nwe can observe disturbances in the exposed relief for both nowadays types of e-beam writers, the shaped e-beam writing system and the Gaussian e-beam writing system. A stable and homogeneous angular current density distribution in the spot is important especially in the case of shaped e-beam lithography systems. A non-homogeneity of the spot over deflection field is seen alongside the field boundaries of both lithography systems.

Název v anglickém jazyce

Large-area gray-scale structures in e-beam writer versus area current homogeneity and deflection uniformity

Popis výsledku anglicky

The high stability and good current homogeneity in the spot of the e-beam writer is crucial to the exposure quality, particularly in the case of large-area structures when gray-scale lithography is used. Even though the deflection field distortion is calibrated regularly and beam focus and beam astigmatism is dynamically corrected over the entire deflection field,nwe can observe disturbances in the exposed relief for both nowadays types of e-beam writers, the shaped e-beam writing system and the Gaussian e-beam writing system. A stable and homogeneous angular current density distribution in the spot is important especially in the case of shaped e-beam lithography systems. A non-homogeneity of the spot over deflection field is seen alongside the field boundaries of both lithography systems.

Druh

D - Stať ve sborníku

CEP obor

JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika

OECD FORD obor

—

Projekt

Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

Návaznosti

I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Rok uplatnění

2016

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku

Proceedings of the 15th International Seminar on Recent Trends in Charged Particle Optics and Surface Physics Instrumentation

ISBN

978-80-87441-17-6

ISSN

—

e-ISSN

—

Počet stran výsledku

2

Strana od-do

26-27

Název nakladatele

Institute of Scientific Instruments CAS

Místo vydání

Brno

Místo konání akce

Skalský dvůr

Datum konání akce

29. 5. 2016

Typ akce podle státní příslušnosti

WRD - Celosvětová akce

Kód UT WoS článku

000391254000011