Hiding e-beam exposure fields by deterministic 2D pattering

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68081731%3A_____%2F18%3A00494364" target="_blank" >RIV/68081731:_____/18:00494364 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Hiding e-beam exposure fields by deterministic 2D pattering

Popis výsledku v původním jazyce

The high stability and good current homogeneity in the spot of the e-beam writer is crucial tonthe exposure quality, particularly in the case of large-area structures when gray-scalenlithography is used. Even though the deflection field distortion is calibrated regularly andnbeam focus and beam astigmatism is dynamically corrected over the entire deflection field, we can observe disturbances in the exposed relief.nRecently, we presented a method that makes use of e–beam exposure imperfection bynintroducing marginally visible high–frequency diffraction gratings of variable pitch that fill innseparate orthogonal exposure fields. The actually presented approach follows up ournresearch on aperiodic arrangements of optical primitives, especially on the phyllotactic–nlike arrangement of sub–micron relief optical elements. This approach is extended from thendiffraction element arrangement to the higher level of exposure fields arrangements.

Název v anglickém jazyce

Hiding e-beam exposure fields by deterministic 2D pattering

Popis výsledku anglicky

The high stability and good current homogeneity in the spot of the e-beam writer is crucial tonthe exposure quality, particularly in the case of large-area structures when gray-scalenlithography is used. Even though the deflection field distortion is calibrated regularly andnbeam focus and beam astigmatism is dynamically corrected over the entire deflection field, we can observe disturbances in the exposed relief.nRecently, we presented a method that makes use of e–beam exposure imperfection bynintroducing marginally visible high–frequency diffraction gratings of variable pitch that fill innseparate orthogonal exposure fields. The actually presented approach follows up ournresearch on aperiodic arrangements of optical primitives, especially on the phyllotactic–nlike arrangement of sub–micron relief optical elements. This approach is extended from thendiffraction element arrangement to the higher level of exposure fields arrangements.

Druh

D - Stať ve sborníku

CEP obor

—

OECD FORD obor

10306 - Optics (including laser optics and quantum optics)

Projekt

Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

Návaznosti

I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Rok uplatnění

2018

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku

Recent Trends in Charged Particle Optics and Surface Physics Instrumentation. Proceedings of the 16th International Seminar

ISBN

978-80-87441-23-7

ISSN

—

e-ISSN

—

Počet stran výsledku

2

Strana od-do

36-37

Název nakladatele

Institute of Scientific Instruments The Czech Academy of Sciences

Místo vydání

Brno

Místo konání akce

Skalský dvůr

Datum konání akce

4. 6. 2018

Typ akce podle státní příslušnosti

WRD - Celosvětová akce

Kód UT WoS článku

000450591400012