Plasma cleaning effect on the stability of the Epon resin sections

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68081731%3A_____%2F16%3A00465340" target="_blank" >RIV/68081731:_____/16:00465340 - isvavai.cz</a>

Nalezeny alternativní kódy

RIV/60077344:_____/16:00465340

Výsledek na webu

<a href="http://onlinelibrary.wiley.com/doi/10.1002/9783527808465.EMC2016.5995/pdf" target="_blank" >http://onlinelibrary.wiley.com/doi/10.1002/9783527808465.EMC2016.5995/pdf</a>

DOI - Digital Object Identifier

<a href="http://dx.doi.org/10.1002/9783527808465.EMC2016.5995" target="_blank" >10.1002/9783527808465.EMC2016.5995</a>

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Plasma cleaning effect on the stability of the Epon resin sections

Popis výsledku v původním jazyce

Low voltage TEM and STEM (transmission and scanning transmission electron microscope) can be regarded as the method of choice for many structural studies of very thin biological samples like ultrathin sections, viruses etc. Unfortunately, the specimen contamination increases with electron flux and therefore a specimen cleanliness is an important factor in obtaining of valuable data especially in STEM. An important parameter for imaging of those samples is a sensitivity of the sample to degradation by electron beam. The mass loss indicates a degree of the radiation damage. We investigated the mass loss of embedding medium (Epon resin of middle hardness) in combination of different thickness of the sections (60 nm and 150 nm) with using or not-using of plasma cleaning which is often used to removing of contamination from the sample.

Název v anglickém jazyce

Plasma cleaning effect on the stability of the Epon resin sections

Popis výsledku anglicky

Low voltage TEM and STEM (transmission and scanning transmission electron microscope) can be regarded as the method of choice for many structural studies of very thin biological samples like ultrathin sections, viruses etc. Unfortunately, the specimen contamination increases with electron flux and therefore a specimen cleanliness is an important factor in obtaining of valuable data especially in STEM. An important parameter for imaging of those samples is a sensitivity of the sample to degradation by electron beam. The mass loss indicates a degree of the radiation damage. We investigated the mass loss of embedding medium (Epon resin of middle hardness) in combination of different thickness of the sections (60 nm and 150 nm) with using or not-using of plasma cleaning which is often used to removing of contamination from the sample.

Druh

D - Stať ve sborníku

CEP obor

JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika

OECD FORD obor

—

Projekt

Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

Návaznosti

I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Rok uplatnění

2016

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku

EMC2016. The 16th European Microscopy Congress. Proceedings

ISBN

9783527808465

ISSN

—

e-ISSN

—

Počet stran výsledku

2

Strana od-do

597-598

Název nakladatele

Wiley

Místo vydání

Oxford

Místo konání akce

Lyon

Datum konání akce

28. 8. 2016

Typ akce podle státní příslušnosti

WRD - Celosvětová akce

Kód UT WoS článku

—