Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

SMV-2018-04: Planární mikrostruktury pro optické aplikace

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68081731%3A_____%2F18%3A00497921" target="_blank" >RIV/68081731:_____/18:00497921 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    čeština

  • Název v původním jazyce

    SMV-2018-04: Planární mikrostruktury pro optické aplikace

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Vývoj planárních mikrostruktur pro optické aplikace a následná realizace vzorků metodou elektronové litografie a dalších technik. Projekt zahrnuje studium materiálů vhodných pro vytvoření planární mikrostruktury v kovové vrstvě s ohledem na dosažitelné rozlišení a splnění požadavků na absorbanci v dané aplikaci. Elektronová litografie je použita pro vytvoření požadovaného motivu v rezistové vrstvě, která slouží jako maska pro leptání kovové vrstvy různými technikami (mokré leptání, reaktivní iontové leptání). Součástí projektu je i sepsání technické dokumentace o vyvinutých postupech a připravených vzorcích.

  • Název v anglickém jazyce

    SMV-2018-04: Planar microstructures for optical applications

  • Popis výsledku anglicky

    The development of planar microstructures for optical applications, and subsequent realization of samples by the way of e-beam lithography and other techniques. Project deals with material study suited for the fabrication of planar microstructures in thin metallic layer with respect to achievable resolution and fulfilling the absorbance parameters for particular application. E-beam lithography is used for preparation the motif in resist layer, which is masking layer for the etching of metallic layer by various techniques (wet etching, reactive ion etching). Technical documentation of developed processes and prepared samples are also the part of the project.

Klasifikace

  • Druh

    O - Ostatní výsledky

  • CEP obor

  • OECD FORD obor

    10306 - Optics (including laser optics and quantum optics)

Návaznosti výsledku

  • Projekt

  • Návaznosti

    N - Vyzkumna aktivita podporovana z neverejnych zdroju

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2018

  • Kód důvěrnosti údajů

    C - Předmět řešení projektu podléhá obchodnímu tajemství (§ 504 Občanského zákoníku), ale název projektu, cíle projektu a u ukončeného nebo zastaveného projektu zhodnocení výsledku řešení projektu (údaje P03, P04, P15, P19, P29, PN8) dodané do CEP, jsou upraveny tak, aby byly zveřejnitelné.