SMV-2019-03: Tenké membrány

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68081731%3A_____%2F19%3A00517208" target="_blank" >RIV/68081731:_____/19:00517208 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
čeština
Název v původním jazyce
SMV-2019-03: Tenké membrány
Popis výsledku v původním jazyce
Vývoj technologie přípravy tenkých nitridových membrán ve velké ploše pro potřeby spektroskopie pomocí pomalých elektronů. Během vývoje se vyzkoušelo několik různých technik pro přípravu tenkých membrán – mokré leptání, reaktivní iontové leptání, plasmatické leptání a nízkofrekvenční plasmatické leptání. Zároveň byla vyvinuta technika nepřímého měření takto tenkých membrán.
Název v anglickém jazyce
SMV-2019-03: Thin membranes
Popis výsledku anglicky
The development of technology for preparation of very thin silicon nitride membrane for use in low energy electron spectroscopy. Several techniques for preparation of thin membranes were tested during the development – wet etching, reactive ion etching, plasma etching, low-frequency plasma etching. Comparative method for the measurement of such thin membranes was developer also.

Druh
V<sub>souhrn</sub> - Souhrnná výzkumná zpráva
CEP obor
—
OECD FORD obor
21002 - Nano-processes (applications on nano-scale); (biomaterials to be 2.9)

Rok uplatnění
2019
Kód důvěrnosti údajů
C - Předmět řešení projektu podléhá obchodnímu tajemství (§ 504 Občanského zákoníku), ale název projektu, cíle projektu a u ukončeného nebo zastaveného projektu zhodnocení výsledku řešení projektu (údaje P03, P04, P15, P19, P29, PN8) dodané do CEP, jsou upraveny tak, aby byly zveřejnitelné.

Podobné výsledky(10)