Patterning of conductive nano-layers on garnet

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68081731%3A_____%2F21%3A00543745" target="_blank" >RIV/68081731:_____/21:00543745 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

<a href="https://www.confer.cz/nanocon/2020/3731-patterning-of-conductive-nano-layer-on-garnet" target="_blank" >https://www.confer.cz/nanocon/2020/3731-patterning-of-conductive-nano-layer-on-garnet</a>

DOI - Digital Object Identifier

<a href="http://dx.doi.org/10.37904/nanocon.2020.3731" target="_blank" >10.37904/nanocon.2020.3731</a>

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Patterning of conductive nano-layers on garnet

Popis výsledku v původním jazyce

Synthetic crystalline materials of the garnet group are used as scintillators in scanning electron microscopy. If a thick conductive layer is applied on the garnet surface, slower electrons don't have enough energy to pass through this relatively thick conductive layer on the scintillator surface. Therefore, either thinner conductive layer or appropriate patterning of the thicker layer has to be used. Within this contribution we study the patterning process of such conductive nano-layer. Resolution of the patterning process is of high interest. Two approaches are compared: direct writing electron beam lithography and mask projection UV lithography.

Název v anglickém jazyce

Patterning of conductive nano-layers on garnet

Popis výsledku anglicky

Synthetic crystalline materials of the garnet group are used as scintillators in scanning electron microscopy. If a thick conductive layer is applied on the garnet surface, slower electrons don't have enough energy to pass through this relatively thick conductive layer on the scintillator surface. Therefore, either thinner conductive layer or appropriate patterning of the thicker layer has to be used. Within this contribution we study the patterning process of such conductive nano-layer. Resolution of the patterning process is of high interest. Two approaches are compared: direct writing electron beam lithography and mask projection UV lithography.

Druh

D - Stať ve sborníku

CEP obor

—

OECD FORD obor

21002 - Nano-processes (applications on nano-scale); (biomaterials to be 2.9)

Projekt

<a href="/cs/project/TN01000008" target="_blank" >TN01000008: Centrum elektronové a fotonové optiky</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2021

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku

NANOCON 2020. 12th International Conference on Nanomaterials - Research & Application. Conference proceedings

ISBN

978-80-87294-98-7

ISSN

2694-930X

e-ISSN

—

Počet stran výsledku

4

Strana od-do

(2021)

Název nakladatele

TANGER

Místo vydání

Ostrava

Místo konání akce

Brno

Datum konání akce

21. 10. 2020

Typ akce podle státní příslušnosti

WRD - Celosvětová akce

Kód UT WoS článku

000664505500037