Kalibrační standard s přesnou 3D morfologickou strukturou

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68081731%3A_____%2F24%3A00598776" target="_blank" >RIV/68081731:_____/24:00598776 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

čeština

Název v původním jazyce

Kalibrační standard s přesnou 3D morfologickou strukturou

Popis výsledku v původním jazyce

Funkční vzorek je kalibrační preparát navržený pro skenovací mikroskopii (SPM) a elektronovou mikroskopii (SEM), s využitím v konvoluční mikroskopii. Preparát je založen na přesně definovaných strukturách monokrystalického křemíku, které umožňují vysoce kontrastní zobrazení a přesné měření vzdáleností. Kombinuje přesné mikro-výrobní operace využívající elektronové litografie, mokré leptání křemíku, reaktivním leptáním, depozice tenkých vrstev a techniku Lift-off, což zajišťuje atomární přesnost motivů a vysokou ortogonalitu struktur a možnost kalibrace konvoluční mikroskopie metodami SEM a SPM. Funkční vzorek má formu křemíkového čipu a obsahuje přesnou morfologickou strukturu realizovanou v monokrystalickém křemíkovém nosiči s dalšími strukturami připravenénavazujícími litografickými kroky. Součástí je dokumentace popisující design kalibračních struktur a obrazové podklady obsahující výstupy z měření vzorku na AFM, SEM a konfokálním mikroskopu.

Název v anglickém jazyce

Calibration standard with precise 3D morphological structure

Popis výsledku anglicky

The functional sample is a calibration specimen designed for scanning probe microscopy (SPM) and scanning electron microscopy (SEM), with applications in convolution microscopy. The specimen is based on precisely defined structures of monocrystalline silicon, enabling high-contrast imaging and accurate distance measurement. It combines precise microfabrication processes involving electron beam lithography, wet silicon etching, reactive ion etching, thin film deposition, and the Lift-off technique, ensuring atomic-level accuracy of the motifs, high orthogonality of the structures, and the ability to calibrate convolution microscopy using SEM and SPM methods. The functional sample is innthe form of a silicon chip, containing a precise morphological structure realized in a monocrystalline silicon substrate, with additional structures prepared through subsequent lithographic steps. Documentation is included, detailing the design of the calibration structures and providing image data from measurements on AFM, SEM, and confocal microscopes.

Druh

G_funk - Funkční vzorek

CEP obor

—

OECD FORD obor

10306 - Optics (including laser optics and quantum optics)

Projekt

<a href="/cs/project/FW03010504" target="_blank" >FW03010504: Vývoj in-situ technik pro charakterizaci materiálů a nanostruktur</a><br>

Návaznosti

I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Rok uplatnění

2024

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Interní identifikační kód produktu

APL-2024-05

Číselná identifikace

FW03010504-V9

Technické parametry

Křemíkový čip rozměru 10 mm x 10 mm obsahující motiv kalibračních vzorů obsahující tvarově přesné morfologické struktury zaznamenané v povrchu i na povrchu monokrystalického křemíkového nosiče, metodami mokrého leptání, reaktivního iontového leptání a technikou lift-off.

Ekonomické parametry

Funkční vzorek vyvinutý během řešení projektu s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Milan Matějka, mmatejka@isibrno.cz

Kategorie aplik. výsledku dle nákladů

—

IČO vlastníka výsledku

68081731

Název vlastníka

Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i.

Stát vlastníka

CZ - Česká republika

Druh možnosti využití

V - Výsledek je využíván vlastníkem

Požadavek na licenční poplatek

—

Adresa www stránky s výsledkem

—