Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Dopant Characterization of Silicon Carbide using Secondary Electron Microscopy

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68081731%3A_____%2F25%3A00647012" target="_blank" >RIV/68081731:_____/25:00647012 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Dopant Characterization of Silicon Carbide using Secondary Electron Microscopy

  • Popis výsledku v původním jazyce

    MOTLOVÁ, T., POKORNÁ, Z., MIKA, F., KNÁPEK, A. Dopant Characterization of Silicon Carbide using Secondary Electron Microscopy. In: OTÁHAL, A., KNÁPEK, A., SKÁCEL, J., NOVOTNÁ, V., eds. IMAPS Flash Conference. 11th International Microelectronics Assembly and Packaging Society Flash Conference. Brno: Brno University of Technology, FEEC, 2025, č. 25, s. 47-48. ISBN 978-80-214-6369-1. Silicon Carbide (SiC) is a critical material in the microchip industry, valued for its excellent thermal, mechanical, and electrical properties. These attributes make SiC well-suited for high power electronics in diverse fields, including electric vehicles and space exploration. The performance and reliability of SiC devices are linked to the precise control and spatial distribution of dopants within the material. Characterizing these dopants is therefore important in semiconductor research and manufacturing. In our research, we are using Secondary Electron Microscopy (SEM), mainly thanks to its capacity to generate Secondary Electron Dopant Contrast, as an excellent non-destructive method for visualizing and profiling dopants in SiC devices.

  • Název v anglickém jazyce

    Dopant Characterization of Silicon Carbide using Secondary Electron Microscopy

  • Popis výsledku anglicky

    MOTLOVÁ, T., POKORNÁ, Z., MIKA, F., KNÁPEK, A. Dopant Characterization of Silicon Carbide using Secondary Electron Microscopy. In: OTÁHAL, A., KNÁPEK, A., SKÁCEL, J., NOVOTNÁ, V., eds. IMAPS Flash Conference. 11th International Microelectronics Assembly and Packaging Society Flash Conference. Brno: Brno University of Technology, FEEC, 2025, č. 25, s. 47-48. ISBN 978-80-214-6369-1. Silicon Carbide (SiC) is a critical material in the microchip industry, valued for its excellent thermal, mechanical, and electrical properties. These attributes make SiC well-suited for high power electronics in diverse fields, including electric vehicles and space exploration. The performance and reliability of SiC devices are linked to the precise control and spatial distribution of dopants within the material. Characterizing these dopants is therefore important in semiconductor research and manufacturing. In our research, we are using Secondary Electron Microscopy (SEM), mainly thanks to its capacity to generate Secondary Electron Dopant Contrast, as an excellent non-destructive method for visualizing and profiling dopants in SiC devices.

Klasifikace

  • Druh

    O - Ostatní výsledky

  • CEP obor

  • OECD FORD obor

    20201 - Electrical and electronic engineering

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    <a href="/cs/project/GF25-19981L" target="_blank" >GF25-19981L: INFASCOPE – Integrovaná analýza autoemisních zdrojů</a><br>

  • Návaznosti

    I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2025

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů