Secondary-electron yield from Au induced by highly charged Ta ions.

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F01%3A02020266" target="_blank" >RIV/68378271:_____/01:02020266 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Secondary-electron yield from Au induced by highly charged Ta ions.
Popis výsledku v původním jazyce
The total electron yields for the emission of electrons induced by the impact of Ta q+ (11.le.q.le.41) ions with kinetic energy per charge from 15 to 150keV/q on clean polycrystalline Au are presented. The analysis shows that the above-surface electron yield strongly depends on the charge state and the below one is proportional to the ion impact velocity.
Název v anglickém jazyce
Secondary-electron yield from Au induced by highly charged Ta ions.
Popis výsledku anglicky
The total electron yields for the emission of electrons induced by the impact of Ta q+ (11.le.q.le.41) ions with kinetic energy per charge from 15 to 150keV/q on clean polycrystalline Au are presented. The analysis shows that the above-surface electron yield strongly depends on the charge state and the below one is proportional to the ion impact velocity.

Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
OECD FORD obor
—

Projekt
<a href="/cs/project/IAA1010819" target="_blank" >IAA1010819: Laserové plasma jako zdroj iontů pro přímou implantaci</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění
2001
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Podobné výsledky(10)