Composition, structure, microhardness and residual stress of W-Ti-N films deposited by reactive magnetron sputtering.

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F02%3A02020141" target="_blank" >RIV/68378271:_____/02:02020141 - isvavai.cz</a>
Nalezeny alternativní kódy
RIV/49777513:23520/02:00069656
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Composition, structure, microhardness and residual stress of W-Ti-N films deposited by reactive magnetron sputtering.
Popis výsledku v původním jazyce
W-Ti-N films were deposited by the reactive d.c. magnetron sputtering from W-Ti(30 at.) target in a mixture of argon and nitrogen at a total pressure of 0.5 Pa onto steel and silicon substrates.
Název v anglickém jazyce
Composition, structure, microhardness and residual stress of W-Ti-N films deposited by reactive magnetron sputtering.
Popis výsledku anglicky
W-Ti-N films were deposited by the reactive d.c. magnetron sputtering from W-Ti(30 at.) target in a mixture of argon and nitrogen at a total pressure of 0.5 Pa onto steel and silicon substrates.

Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
OECD FORD obor
—

Projekt
Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění
2002
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Podobné výsledky(10)