Vliv RF výboje na růst nanokrystalických diamantových vrstev deponovaných metodou pulsní laserové depozice

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F03%3A00100731" target="_blank" >RIV/68378271:_____/03:00100731 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Influence of RF discharges on nanocrystalline diamond films growth by pulsed laser deposition
Popis výsledku v původním jazyce
In this paper, we report on the growth of NCD films by PLD in pure hydrogen ambient and by HPLD in Ar/H2 ambient. HPLD systems were based on combination of PLD and addiational RF discharges. The deposited films were studied using Alfastep profilometer, X-ray diffraction, Raman spectroscopy and scanning electron microscopy
Název v anglickém jazyce
Influence of RF discharges on nanocrystalline diamond films growth by pulsed laser deposition
Popis výsledku anglicky
In this paper, we report on the growth of NCD films by PLD in pure hydrogen ambient and by HPLD in Ar/H2 ambient. HPLD systems were based on combination of PLD and addiational RF discharges. The deposited films were studied using Alfastep profilometer, X-ray diffraction, Raman spectroscopy and scanning electron microscopy

Projekt
<a href="/cs/project/IAA1010110" target="_blank" >IAA1010110: Nové laserové hybridní technologie pro depozici tenkých vrstev</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění
2003
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Podobné výsledky(10)