Vliv povrchových excitací na pružný odraz elektronů od povrchu křemíku

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F04%3A00104226" target="_blank" >RIV/68378271:_____/04:00104226 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Surface excitations in electron backscattering from silicon surfaces
Popis výsledku v původním jazyce
The surface excitation corrections are applied on measured electron backscattering probabilities from silicon surface with respect to copper and gold standards. Corrected peak areas are finally used for evaluating of inelastic mean free paths for silicon, and compared with the available literature data.
Název v anglickém jazyce
Surface excitations in electron backscattering from silicon surfaces
Popis výsledku anglicky
The surface excitation corrections are applied on measured electron backscattering probabilities from silicon surface with respect to copper and gold standards. Corrected peak areas are finally used for evaluating of inelastic mean free paths for silicon, and compared with the available literature data.

Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
OECD FORD obor
—

Projekt
<a href="/cs/project/GA202%2F02%2F0237" target="_blank" >GA202/02/0237: Elektronový transport při površích pevných látek</a><br>
Návaznosti
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění
2004
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Podobné výsledky(10)