Large area deposition of Pb(Zr,Ti)O3 thin films for piezoelectric MEMS

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F08%3A00306540" target="_blank" >RIV/68378271:_____/08:00306540 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Large area deposition of Pb(Zr,Ti)O3 thin films for piezoelectric MEMS

Popis výsledku v původním jazyce

Pb(Zr,Ti)O3 (PZT) thin films deposited on insulating ZrO2 buffered silicon wafer are intended to be employed for in-plane polarized piezoelectric MEMS devices. Multi-target reactive sputtering system for large area deposition of in-situ crystallized PZTthin films and the ZrO2 buffer layer has been employed.

Název v anglickém jazyce

Large area deposition of Pb(Zr,Ti)O3 thin films for piezoelectric MEMS

Popis výsledku anglicky

Pb(Zr,Ti)O3 (PZT) thin films deposited on insulating ZrO2 buffered silicon wafer are intended to be employed for in-plane polarized piezoelectric MEMS devices. Multi-target reactive sputtering system for large area deposition of in-situ crystallized PZTthin films and the ZrO2 buffer layer has been employed.

Druh

J_imp - Článek v periodiku v databázi Web of Science

CEP obor

—

OECD FORD obor

10302 - Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)

Projekt

—

Návaznosti

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2008

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Journal of Electroceramics

ISSN

1385-3449

e-ISSN

—

Svazek periodika

20

Číslo periodika v rámci svazku

-

Stát vydavatele periodika

NL - Nizozemsko

Počet stran výsledku

4

Strana od-do

17-20

Kód UT WoS článku

000252768700004

EID výsledku v databázi Scopus

—