Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Photo-induced electrochemical functionality of the TiO2 nanoscale films

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F09%3A00333771" target="_blank" >RIV/68378271:_____/09:00333771 - isvavai.cz</a>

  • Nalezeny alternativní kódy

    RIV/67985858:_____/09:00333771 RIV/60461373:22310/09:00021513 RIV/68407700:21340/09:00164547

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Photo-induced electrochemical functionality of the TiO2 nanoscale films

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Titanium(IV) oxide semiconducting thin films were deposited in the environment of chemically active plasma by means of the PVD hollow cathode plasma jet sputtering, PVD magnetron sputtering and the PECVD technique (surfatron produced plasma discharge asa jet type). In parallel the sol?gel process carried out in the reverse micelle environment was utilized as a purely chemical procedure. Prepared films were described by a series of characterization methods involving atomic force microscopy (AFM), scanning electron microscopy (SEM), X-ray diffraction (XRD) and ultraviolet?visible spectroscopy (UV?vis). All layers were tested then for their photo-induced electrochemical properties based on evaluation of polarization curves and corresponding photocurrents. These experiments were carried out in the optoelectrical apparatus supplemented with a system of highly precious spectral filters. The differences among photocurrent values were discussed.

  • Název v anglickém jazyce

    Photo-induced electrochemical functionality of the TiO2 nanoscale films

  • Popis výsledku anglicky

    Titanium(IV) oxide semiconducting thin films were deposited in the environment of chemically active plasma by means of the PVD hollow cathode plasma jet sputtering, PVD magnetron sputtering and the PECVD technique (surfatron produced plasma discharge asa jet type). In parallel the sol?gel process carried out in the reverse micelle environment was utilized as a purely chemical procedure. Prepared films were described by a series of characterization methods involving atomic force microscopy (AFM), scanning electron microscopy (SEM), X-ray diffraction (XRD) and ultraviolet?visible spectroscopy (UV?vis). All layers were tested then for their photo-induced electrochemical properties based on evaluation of polarization curves and corresponding photocurrents. These experiments were carried out in the optoelectrical apparatus supplemented with a system of highly precious spectral filters. The differences among photocurrent values were discussed.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2009

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Electrochimica acta

  • ISSN

    0013-4686

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    54

  • Číslo periodika v rámci svazku

    12

  • Stát vydavatele periodika

    GB - Spojené království Velké Británie a Severního Irska

  • Počet stran výsledku

    8

  • Strana od-do

  • Kód UT WoS článku

    000265011700016

  • EID výsledku v databázi Scopus