Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Plasmatické nanášení a fotoelektrochemické vlastnosti tenkých vrstev oxidu titaničitého

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F60461373%3A22310%2F08%3A00020173" target="_blank" >RIV/60461373:22310/08:00020173 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Plasma deposition and Photoelectrochemical properties of Nanoscaled Titanium(IV) oxide thin layers

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Various techniques were used for the preparation of titanium (IV) oxide nanoscaled thin films. The deposition of the layers was carried out in the environmental of chemically active plasma due to the utilization of plasma assisted device including PVD hollow cathode plasma jet sputtering system, PVD magnetron sputtering and PECVD technique using surfatron produced plasma discharge as a jet type. The sol-gel process realized in the reverse micelle environment was chosen as a purely chemical procedure. All type were tested then for their photo-induced electrochemical properties based on evaluation of polarization curves and corresponding photocurrents.

  • Název v anglickém jazyce

    Plasma deposition and Photoelectrochemical properties of Nanoscaled Titanium(IV) oxide thin layers

  • Popis výsledku anglicky

    Various techniques were used for the preparation of titanium (IV) oxide nanoscaled thin films. The deposition of the layers was carried out in the environmental of chemically active plasma due to the utilization of plasma assisted device including PVD hollow cathode plasma jet sputtering system, PVD magnetron sputtering and PECVD technique using surfatron produced plasma discharge as a jet type. The sol-gel process realized in the reverse micelle environment was chosen as a purely chemical procedure. All type were tested then for their photo-induced electrochemical properties based on evaluation of polarization curves and corresponding photocurrents.

Klasifikace

  • Druh

    D - Stať ve sborníku

  • CEP obor

    CH - Jaderná a kvantová chemie, fotochemie

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2008

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název statě ve sborníku

    Proceedings of the workshop Recent advances in photochemistry, electrochemistry and photocatalysis

  • ISBN

    978-80-7080-680-7

  • ISSN

  • e-ISSN

  • Počet stran výsledku

    3

  • Strana od-do

  • Název nakladatele

    VŠCHT Praha

  • Místo vydání

    Praha

  • Místo konání akce

    Hnanice

  • Datum konání akce

    4. 12. 2007

  • Typ akce podle státní příslušnosti

    EUR - Evropská akce

  • Kód UT WoS článku