Fotokatalytický rozklad organické látky na filmu oxidu titaničitého připraveného PECVD.
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F46747885%3A24210%2F07%3A%40KMT0118" target="_blank" >RIV/46747885:24210/07:@KMT0118 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Photocatalytic Decomposition of Organic Matter on Titanium Dioxide Film Prepared by PECVD.
Popis výsledku v původním jazyce
This work presents a comparison study of photochemicalactivity of titanium dioxide deposited by three differentmethods: by low pressure plasma enhanced chemical vapordeposition (PECVD) capacitive radio frequency (RF)discharge, by atmospheric pressure PECVD barrier torchplasma jet and by low pressure physical vapor deposition(PVD) hollow cathode plasma jet sputtering system. Vaporsof titanium (IV) isopropoxide Ti[OCH(CH3)2]4 were used asgrowth precursors for titanium dioxide films depositon bythe both PECVD methods, whereas titanium hollow cathodenozzle was reactively sputtered in the PVD method. Titaniumdioxide films were studied by X-ray diffraction (XRD) forcrystalline phase analysis and furthermore by measurementof thickness and deposition rate. Allthe systems producefilm with anatase structure. The photochemical activity wastested on decomposition of the Acid orange (AO7). Thefilms also manifest strong microbiological activity, which isdemonstrated on inactivation of bacteria.
Název v anglickém jazyce
Photocatalytic Decomposition of Organic Matter on Titanium Dioxide Film Prepared by PECVD.
Popis výsledku anglicky
This work presents a comparison study of photochemicalactivity of titanium dioxide deposited by three differentmethods: by low pressure plasma enhanced chemical vapordeposition (PECVD) capacitive radio frequency (RF)discharge, by atmospheric pressure PECVD barrier torchplasma jet and by low pressure physical vapor deposition(PVD) hollow cathode plasma jet sputtering system. Vaporsof titanium (IV) isopropoxide Ti[OCH(CH3)2]4 were used asgrowth precursors for titanium dioxide films depositon bythe both PECVD methods, whereas titanium hollow cathodenozzle was reactively sputtered in the PVD method. Titaniumdioxide films were studied by X-ray diffraction (XRD) forcrystalline phase analysis and furthermore by measurementof thickness and deposition rate. Allthe systems producefilm with anatase structure. The photochemical activity wastested on decomposition of the Acid orange (AO7). Thefilms also manifest strong microbiological activity, which isdemonstrated on inactivation of bacteria.
Klasifikace
Druh
D - Stať ve sborníku
CEP obor
JK - Koroze a povrchové úpravy materiálu
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/1M0577" target="_blank" >1M0577: Výzkumné centrum pro nanopovrchové inženýrství</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Ostatní
Rok uplatnění
2007
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název statě ve sborníku
Proceedings of the Annual Technical Conference- Society of Vacuum Coaters
ISBN
—
ISSN
0737-5921
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
4
Strana od-do
117-120
Název nakladatele
Society of Vacuum Coaters
Místo vydání
Louisville
Místo konání akce
Louisville
Datum konání akce
28. 5. 2007
Typ akce podle státní příslušnosti
EUR - Evropská akce
Kód UT WoS článku
—