Fotokatalytický rozklad organických látek na tenké vrstvě TiO2 připravené metodou PECVD

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F60076658%3A12410%2F07%3A00008117" target="_blank" >RIV/60076658:12410/07:00008117 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Photocatalytic Decomposition of Organic Matter on Titanium Dioxide Film prepared by PECVD

Popis výsledku v původním jazyce

This work presents a comparison study of photochemical activity of titanium dioxide deposited by three different methods: by low pressure plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD): capacitive radio frequency (RF) discharge, by atmospheric pressure PECVD barrier torch plasma jet and by low pressure physical vapor deposition (PVD) hollow cathode plasma jet sputtering system. Vapors of titanium (IV) isopropoxide Ti[OCH(CH3)2]4 were used as growth precursors for titanium dioxide films depositon by the both PECVD methods, whereas titanium hollow cathode nozzle was reactively sputtered in the PVD method. Titanium dioxide films were studied by X-ray diffraction (XRD) for crystalline phase analysis and furthermore by measurement of thickness and deposition rate. All the systems produce film with anatase structure. The photochemical activity was tested on decomposition of the Acid orange (AO7). The films also manifest strong microbiological activity, which is demonstrated on inactivatio

Název v anglickém jazyce

Photocatalytic Decomposition of Organic Matter on Titanium Dioxide Film prepared by PECVD

Popis výsledku anglicky

This work presents a comparison study of photochemical activity of titanium dioxide deposited by three different methods: by low pressure plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD): capacitive radio frequency (RF) discharge, by atmospheric pressure PECVD barrier torch plasma jet and by low pressure physical vapor deposition (PVD) hollow cathode plasma jet sputtering system. Vapors of titanium (IV) isopropoxide Ti[OCH(CH3)2]4 were used as growth precursors for titanium dioxide films depositon by the both PECVD methods, whereas titanium hollow cathode nozzle was reactively sputtered in the PVD method. Titanium dioxide films were studied by X-ray diffraction (XRD) for crystalline phase analysis and furthermore by measurement of thickness and deposition rate. All the systems produce film with anatase structure. The photochemical activity was tested on decomposition of the Acid orange (AO7). The films also manifest strong microbiological activity, which is demonstrated on inactivatio

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/GA202%2F05%2F2242" target="_blank" >GA202/05/2242: Studium nových nízkoteplotních plazmatických zdrojů pracujících za atmosférického tlaku z hlediska jejich využití pro depozice tenkých vrstev</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2007

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

2007 Society of Vacuum Coaters

ISSN

0737-5921

e-ISSN

—

Svazek periodika

15

Číslo periodika v rámci svazku

x

Stát vydavatele periodika

US - Spojené státy americké

Počet stran výsledku

4

Strana od-do

117-120

Kód UT WoS článku

—

EID výsledku v databázi Scopus

—