Measurement of total energy flux density at a substrate during TiOx thin film deposition by using a plasma jet system
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F09%3A00334316" target="_blank" >RIV/68378271:_____/09:00334316 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Measurement of total energy flux density at a substrate during TiOx thin film deposition by using a plasma jet system
Popis výsledku v původním jazyce
The total energy flux density delivered to an electrically isolated substrate in a low-pressure pulsed DC hollow cathode plasma jet sputtering system during TiO2 thin film deposition has been quantified. The plasma source was operated in constant averagecurrent mode and in a mixture of argon and oxygen or only in pure argon working gas. A titanium nozzle served as the hollow cathode. The total energy flux density measurements were made using a planar calorimeter probe. The main results from the calorimeter probe showed clearly that the total energy flux density at the electrically isolated substrate decreases significantly with duty cycle from 100% (DC mode) to 10% at a given pulsing frequency 2.5 kHz.
Název v anglickém jazyce
Measurement of total energy flux density at a substrate during TiOx thin film deposition by using a plasma jet system
Popis výsledku anglicky
The total energy flux density delivered to an electrically isolated substrate in a low-pressure pulsed DC hollow cathode plasma jet sputtering system during TiO2 thin film deposition has been quantified. The plasma source was operated in constant averagecurrent mode and in a mixture of argon and oxygen or only in pure argon working gas. A titanium nozzle served as the hollow cathode. The total energy flux density measurements were made using a planar calorimeter probe. The main results from the calorimeter probe showed clearly that the total energy flux density at the electrically isolated substrate decreases significantly with duty cycle from 100% (DC mode) to 10% at a given pulsing frequency 2.5 kHz.
Klasifikace
Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Ostatní
Rok uplatnění
2009
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Vacuum
ISSN
0042-207X
e-ISSN
—
Svazek periodika
83
Číslo periodika v rámci svazku
4
Stát vydavatele periodika
GB - Spojené království Velké Británie a Severního Irska
Počet stran výsledku
7
Strana od-do
—
Kód UT WoS článku
000261824400008
EID výsledku v databázi Scopus
—