Raman scattering in silicon disordered by gold ion implantation
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F10%3A00346873" target="_blank" >RIV/68378271:_____/10:00346873 - isvavai.cz</a>
Nalezeny alternativní kódy
RIV/61389005:_____/10:00346873
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Raman scattering in silicon disordered by gold ion implantation
Popis výsledku v původním jazyce
Si (111) covered by a 250-nm thick SiO2 surface layer has been disordered through implantation of 3.035 MeV gold ions within broad range of fluences from 1 x 10(13) ions/cm(2) to 1 x 10(16) ions/cm(2). Raman spectroscopy (514.5 nm laser) was applied forcharacterization of the silicon disordering. Variation of the Raman spectra of silicon after low-fluence implantation (fluences lower than 5 x 10(14) ions/cm(2)) in the vicinity of the transverse optical phonon (1TO) peak reflects the coexistence of bulkSi crystals (c-Si) and Si nanocrystals (nc-Si) in the implanted layer. Implantation with higher fluences yields only the stable 470 cm(-1) 1TO peak, corresponding to formation of amorphous phase (a-Si), in this region of the spectra. Detailed analysis of the silicon disorder was performed through calculation of the transverse acoustical phonon (1TA) peak area.
Název v anglickém jazyce
Raman scattering in silicon disordered by gold ion implantation
Popis výsledku anglicky
Si (111) covered by a 250-nm thick SiO2 surface layer has been disordered through implantation of 3.035 MeV gold ions within broad range of fluences from 1 x 10(13) ions/cm(2) to 1 x 10(16) ions/cm(2). Raman spectroscopy (514.5 nm laser) was applied forcharacterization of the silicon disordering. Variation of the Raman spectra of silicon after low-fluence implantation (fluences lower than 5 x 10(14) ions/cm(2)) in the vicinity of the transverse optical phonon (1TO) peak reflects the coexistence of bulkSi crystals (c-Si) and Si nanocrystals (nc-Si) in the implanted layer. Implantation with higher fluences yields only the stable 470 cm(-1) 1TO peak, corresponding to formation of amorphous phase (a-Si), in this region of the spectra. Detailed analysis of the silicon disorder was performed through calculation of the transverse acoustical phonon (1TA) peak area.
Klasifikace
Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Ostatní
Rok uplatnění
2010
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Physica Status Solidi B-Basic Solid State Physics
ISSN
0370-1972
e-ISSN
—
Svazek periodika
247
Číslo periodika v rámci svazku
8
Stát vydavatele periodika
DE - Spolková republika Německo
Počet stran výsledku
5
Strana od-do
—
Kód UT WoS článku
000281092600031
EID výsledku v databázi Scopus
—