Ablative microstructuring with plasma-based XUV lasers and efficient processing of materials by dual action of XUV/NIR?VIS ultrashort pulses

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F10%3A00350278" target="_blank" >RIV/68378271:_____/10:00350278 - isvavai.cz</a>

Nalezeny alternativní kódy

RIV/68081731:_____/10:00350278

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Ablative microstructuring with plasma-based XUV lasers and efficient processing of materials by dual action of XUV/NIR?VIS ultrashort pulses

Popis výsledku v původním jazyce

We report on a single-shot micropatterning of an organic polymer achieved by ablation with demagnifying projection using a plasma-based extreme ultraviolet (XUV) laser at 21 nm. A nickel mesh with a period of 100?m was 10 demagnified and imprinted on poly(methyl methacrylate) (PMMA) via direct ablation. This first demonstration of single-shot projection, single-step lithography illustrates the great potential of XUV lasers for the direct patterning of materials with a resolution scalable down to the submicrometer domain. In the second part, we present a novel experimental method for improving the efficiency of surface processing of various solids achieved by simultaneous action of XUV.

Název v anglickém jazyce

Ablative microstructuring with plasma-based XUV lasers and efficient processing of materials by dual action of XUV/NIR?VIS ultrashort pulses

Popis výsledku anglicky

We report on a single-shot micropatterning of an organic polymer achieved by ablation with demagnifying projection using a plasma-based extreme ultraviolet (XUV) laser at 21 nm. A nickel mesh with a period of 100?m was 10 demagnified and imprinted on poly(methyl methacrylate) (PMMA) via direct ablation. This first demonstration of single-shot projection, single-step lithography illustrates the great potential of XUV lasers for the direct patterning of materials with a resolution scalable down to the submicrometer domain. In the second part, we present a novel experimental method for improving the efficiency of surface processing of various solids achieved by simultaneous action of XUV.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BH - Optika, masery a lasery

OECD FORD obor

—

Projekt

Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2010

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Radiation Effects and Defects in Solids

ISSN

1042-0150

e-ISSN

—

Svazek periodika

165

Číslo periodika v rámci svazku

6-10

Stát vydavatele periodika

GB - Spojené království Velké Británie a Severního Irska

Počet stran výsledku

8

Strana od-do

—

Kód UT WoS článku

000281854500021

EID výsledku v databázi Scopus

—