Study of Ablation Threshold of Ionic Crystals for Capillary-discharge XUV Laser Radiation
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216208%3A11320%2F11%3A10109734" target="_blank" >RIV/00216208:11320/11:10109734 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
<a href="http://www.mff.cuni.cz/veda/konference/wds/proc/pdf11/WDS11_244_f2_Pira.pdf" target="_blank" >http://www.mff.cuni.cz/veda/konference/wds/proc/pdf11/WDS11_244_f2_Pira.pdf</a>
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Study of Ablation Threshold of Ionic Crystals for Capillary-discharge XUV Laser Radiation
Popis výsledku v původním jazyce
Ionic crystals are promising materials for testing XUV source in PLD (pulsed laser deposition) arrangement. In this investigation of LiF we use an incidence angle of 20o to study characteristics of ablation and laser-matter interaction under conditions similar as in the PLD arrangement. Single-shot ablation threshold was determined. Also CaF2 was irradiated by XUV radiation and ablation threshold relative to LiF was determined. Irradiated samples have been investigated by Nomarski (DIC-Differential Interference Contrast) microscopy and optical profiler (WLI-white light interferometry).
Název v anglickém jazyce
Study of Ablation Threshold of Ionic Crystals for Capillary-discharge XUV Laser Radiation
Popis výsledku anglicky
Ionic crystals are promising materials for testing XUV source in PLD (pulsed laser deposition) arrangement. In this investigation of LiF we use an incidence angle of 20o to study characteristics of ablation and laser-matter interaction under conditions similar as in the PLD arrangement. Single-shot ablation threshold was determined. Also CaF2 was irradiated by XUV radiation and ablation threshold relative to LiF was determined. Irradiated samples have been investigated by Nomarski (DIC-Differential Interference Contrast) microscopy and optical profiler (WLI-white light interferometry).
Klasifikace
Druh
D - Stať ve sborníku
CEP obor
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/GAP108%2F11%2F1312" target="_blank" >GAP108/11/1312: Vytváření speciálních tenkých vrstev UV-Vis-NIR transparentních dielektric pomocí ablace repetičním kapilárním XUV laserem</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)<br>S - Specificky vyzkum na vysokych skolach
Ostatní
Rok uplatnění
2011
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název statě ve sborníku
WDS'11 Proceedings of Contributed Papers: Part II ? Physics of Plasmas and Ionized Media
ISBN
978-80-7378-185-9
ISSN
—
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
5
Strana od-do
252-256
Název nakladatele
Matfyzpress
Místo vydání
Praha
Místo konání akce
Praha
Datum konání akce
31. 5. 2011
Typ akce podle státní příslušnosti
CST - Celostátní akce
Kód UT WoS článku
—