Ablation of ionic crystals induced by capillary-discharge XUV laser
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216208%3A11320%2F11%3A10108840" target="_blank" >RIV/00216208:11320/11:10108840 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
<a href="http://dx.doi.org/10.1117/12.890406" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1117/12.890406</a>
DOI - Digital Object Identifier
<a href="http://dx.doi.org/10.1117/12.890406" target="_blank" >10.1117/12.890406</a>
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Ablation of ionic crystals induced by capillary-discharge XUV laser
Popis výsledku v původním jazyce
Single crystals of two fluorides (LiF and CaF2) and a tungstate (PbWO4) were irradiated by nanosecond pulses of 46.9- nm radiation provided by 10-Hz capillary-discharge Ne-like Ar laser (CDL). The damage threshold was determined in LiF using the CDL beamfocused by a Sc/Si multilayer-coated spherical mirror. Irradiated samples have been investigated by Nomarski (DIC - Differential Interference Contrast) microscopy and optical (WLI - white light intereferometry) profiler. After an exposure by a certain number of CDL pulses, an ablation rate can be calculated from WLI measured depth of the crater created by the XUV ablation. Potential use of XUV ablation of ionic crystals in pulsed laser deposition (PLD) of thin layers of such a particular material, which is difficult to ablate by conventional UV-Vis- NIR lasers, is discussed in this contribution.
Název v anglickém jazyce
Ablation of ionic crystals induced by capillary-discharge XUV laser
Popis výsledku anglicky
Single crystals of two fluorides (LiF and CaF2) and a tungstate (PbWO4) were irradiated by nanosecond pulses of 46.9- nm radiation provided by 10-Hz capillary-discharge Ne-like Ar laser (CDL). The damage threshold was determined in LiF using the CDL beamfocused by a Sc/Si multilayer-coated spherical mirror. Irradiated samples have been investigated by Nomarski (DIC - Differential Interference Contrast) microscopy and optical (WLI - white light intereferometry) profiler. After an exposure by a certain number of CDL pulses, an ablation rate can be calculated from WLI measured depth of the crater created by the XUV ablation. Potential use of XUV ablation of ionic crystals in pulsed laser deposition (PLD) of thin layers of such a particular material, which is difficult to ablate by conventional UV-Vis- NIR lasers, is discussed in this contribution.
Klasifikace
Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/GAP108%2F11%2F1312" target="_blank" >GAP108/11/1312: Vytváření speciálních tenkých vrstev UV-Vis-NIR transparentních dielektric pomocí ablace repetičním kapilárním XUV laserem</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)<br>S - Specificky vyzkum na vysokych skolach
Ostatní
Rok uplatnění
2011
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Proceedings of SPIE
ISSN
0277-786X
e-ISSN
—
Svazek periodika
8077
Číslo periodika v rámci svazku
1
Stát vydavatele periodika
US - Spojené státy americké
Počet stran výsledku
7
Strana od-do
807719, 1-7
Kód UT WoS článku
000293212000030
EID výsledku v databázi Scopus
—