Ablation Threshold of XUV Laser Ablation of LiF

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216208%3A11320%2F12%3A10133159" target="_blank" >RIV/00216208:11320/12:10133159 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

<a href="http://www.mff.cuni.cz/veda/konference/wds/proc/pdf12/WDS12_209_f2_Pira.pdf" target="_blank" >http://www.mff.cuni.cz/veda/konference/wds/proc/pdf12/WDS12_209_f2_Pira.pdf</a>

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Ablation Threshold of XUV Laser Ablation of LiF

Popis výsledku v původním jazyce

The first Atomic Force Microscopy (AFM) results are presented, obtained on the surface of a typical ionic crystal, i.e., lithium fluoride, exposed to focused nanosecond pulses delivered from a new source of Extreme Ultraviolet (XUV; laser wavelength: 46.9 nm) laser radiation. The desktop capillary-discharge XUV laser works in pulsed regime. Our studies of the interaction of the XUV laser radiation with LiF is motivated by potential utilization of the laser for Pulsed Laser Deposition (PLD). Exposed samples have been investigated not only by AFM but also with an optical profiler (White Light Interferometry-WLI) for a comparison of both the techniques.

Název v anglickém jazyce

Ablation Threshold of XUV Laser Ablation of LiF

Popis výsledku anglicky

The first Atomic Force Microscopy (AFM) results are presented, obtained on the surface of a typical ionic crystal, i.e., lithium fluoride, exposed to focused nanosecond pulses delivered from a new source of Extreme Ultraviolet (XUV; laser wavelength: 46.9 nm) laser radiation. The desktop capillary-discharge XUV laser works in pulsed regime. Our studies of the interaction of the XUV laser radiation with LiF is motivated by potential utilization of the laser for Pulsed Laser Deposition (PLD). Exposed samples have been investigated not only by AFM but also with an optical profiler (White Light Interferometry-WLI) for a comparison of both the techniques.

Druh

D - Stať ve sborníku

CEP obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/GAP108%2F11%2F1312" target="_blank" >GAP108/11/1312: Vytváření speciálních tenkých vrstev UV-Vis-NIR transparentních dielektric pomocí ablace repetičním kapilárním XUV laserem</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)<br>S - Specificky vyzkum na vysokych skolach

Rok uplatnění

2012

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku

WDS'12 Proceedings of Contributed Papers: Part II - Physics of Plasmas and Ionized Media

ISBN

978-80-7378-225-2

ISSN

—

e-ISSN

—

Počet stran výsledku

4

Strana od-do

54-57

Název nakladatele

Matfyzpress

Místo vydání

Praha

Místo konání akce

Praha

Datum konání akce

29. 5. 2012

Typ akce podle státní příslušnosti

EUR - Evropská akce

Kód UT WoS článku

—