Desorption mechanisms in PMMA irradiated by high order harmonics
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F11%3A00372549" target="_blank" >RIV/68378271:_____/11:00372549 - isvavai.cz</a>
Nalezeny alternativní kódy
RIV/68407700:21670/11:00201488 RIV/68407700:21460/11:00201488
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Desorption mechanisms in PMMA irradiated by high order harmonics
Popis výsledku v původním jazyce
The recent development of intense sources in the XUV range (10-100 nm), such as X-ray laser, Free Electron Laser and High order Harmonics (HoH), allows the study of high flux processes and ultra-fast dynamics in various domains. At the SLIC facility of CEA-Saclay, we have built a gas-harmonic beamline to investigate the interaction of intense XUV pulse with solids. High Harmonics of an IR laser (Ti:Sa at 800 nm, 35 fs, 13 mJ/pulse, 1 kHz) are generated in a rare gas cell (Xe). The useful XUV range (40-60 nm) is selected with metallic filters. The harmonic beam is focused with a parabolic mirror to a 10 ?m focal spot on sample, leading to a fluence per shot of up to 1 mJ/cm2 (within a typical 10 fs pulse duration). Studies aimed at understanding the damaging mechanisms caused by XUV irradiation on surface of various samples by systematically varying of fluence and exposure time.
Název v anglickém jazyce
Desorption mechanisms in PMMA irradiated by high order harmonics
Popis výsledku anglicky
The recent development of intense sources in the XUV range (10-100 nm), such as X-ray laser, Free Electron Laser and High order Harmonics (HoH), allows the study of high flux processes and ultra-fast dynamics in various domains. At the SLIC facility of CEA-Saclay, we have built a gas-harmonic beamline to investigate the interaction of intense XUV pulse with solids. High Harmonics of an IR laser (Ti:Sa at 800 nm, 35 fs, 13 mJ/pulse, 1 kHz) are generated in a rare gas cell (Xe). The useful XUV range (40-60 nm) is selected with metallic filters. The harmonic beam is focused with a parabolic mirror to a 10 ?m focal spot on sample, leading to a fluence per shot of up to 1 mJ/cm2 (within a typical 10 fs pulse duration). Studies aimed at understanding the damaging mechanisms caused by XUV irradiation on surface of various samples by systematically varying of fluence and exposure time.
Klasifikace
Druh
D - Stať ve sborníku
CEP obor
BH - Optika, masery a lasery
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Ostatní
Rok uplatnění
2011
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název statě ve sborníku
Damage to VUV, EUV, and X-ray Optics III
ISBN
9780819486677
ISSN
—
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
10
Strana od-do
"80770L/1"-"80770L/10"
Název nakladatele
SPIE
Místo vydání
Bellingham
Místo konání akce
Prague
Datum konání akce
18. 4. 2011
Typ akce podle státní příslušnosti
WRD - Celosvětová akce
Kód UT WoS článku
000293212000013