SiC graphene FET with polydimethylglutharimide as a gate dielectric layer
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F14%3A00440959" target="_blank" >RIV/68378271:_____/14:00440959 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
SiC graphene FET with polydimethylglutharimide as a gate dielectric layer
Popis výsledku v původním jazyce
We present our results of using MicroChem Lift-Off Resist (LOR) layer as a dielectric layer for SiC graphene FETs. LOR resist is based on polydimethylglutharimide. Its unique properties enable to perform exceptionally well resolution imaging, easy process tuning, high yields and superior deposition line width control.
Název v anglickém jazyce
SiC graphene FET with polydimethylglutharimide as a gate dielectric layer
Popis výsledku anglicky
We present our results of using MicroChem Lift-Off Resist (LOR) layer as a dielectric layer for SiC graphene FETs. LOR resist is based on polydimethylglutharimide. Its unique properties enable to perform exceptionally well resolution imaging, easy process tuning, high yields and superior deposition line width control.
Klasifikace
Druh
D - Stať ve sborníku
CEP obor
BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/GAP108%2F11%2F0894" target="_blank" >GAP108/11/0894: Růst a zpracování gafenových vrstev na karbidu křemíku</a><br>
Návaznosti
I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace
Ostatní
Rok uplatnění
2014
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název statě ve sborníku
ASDAM 2014- Conference Proceedings: The 10th International Conference on Advanced Semiconductor Devices and Microsystems
ISBN
978-1-4799-5474-2
ISSN
—
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
4
Strana od-do
33-36
Název nakladatele
Slovak University of Technology
Místo vydání
Bratislava
Místo konání akce
Smolenice
Datum konání akce
20. 10. 2014
Typ akce podle státní příslušnosti
WRD - Celosvětová akce
Kód UT WoS článku
—