Nanoscale Characterization of Ultra-thin Tungsten Films Deposited by Radio-Frequency Magnetron Sputtering

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F15%3A00447554" target="_blank" >RIV/68378271:_____/15:00447554 - isvavai.cz</a>

Nalezeny alternativní kódy

RIV/68081731:_____/15:00447554

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Nanoscale Characterization of Ultra-thin Tungsten Films Deposited by Radio-Frequency Magnetron Sputtering

Popis výsledku v původním jazyce

In this article, atomic force microscopy was used for nanoscale characterization of ultra-zhin tungsten films wich were deposited on silicon substrate. Radio-frequency magnetron sputtering was used for tungsten deposition on the sueface.

Název v anglickém jazyce

Nanoscale Characterization of Ultra-thin Tungsten Films Deposited by Radio-Frequency Magnetron Sputtering

Popis výsledku anglicky

In this article, atomic force microscopy was used for nanoscale characterization of ultra-zhin tungsten films wich were deposited on silicon substrate. Radio-frequency magnetron sputtering was used for tungsten deposition on the sueface.

Druh

D - Stať ve sborníku

CEP obor

JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika

OECD FORD obor

—

Projekt

—

Návaznosti

I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Rok uplatnění

2015

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku

IEEE NANO 2015 Proceedings. 15th International Conference on Nanotechnology

ISBN

978-1-4673-8156-7

ISSN

—

e-ISSN

—

Počet stran výsledku

4

Strana od-do

—

Název nakladatele

IEEE

Místo vydání

Danvers

Místo konání akce

Rome

Datum konání akce

27. 7. 2015

Typ akce podle státní příslušnosti

WRD - Celosvětová akce

Kód UT WoS článku

—