Features of copper coatings growth at high-rate deposition using magnetron sputtering systems with a liquid metal target

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F17%3A00478821" target="_blank" >RIV/68378271:_____/17:00478821 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

<a href="http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2017.05.065" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2017.05.065</a>

DOI - Digital Object Identifier

<a href="http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2017.05.065" target="_blank" >10.1016/j.surfcoat.2017.05.065</a>

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Features of copper coatings growth at high-rate deposition using magnetron sputtering systems with a liquid metal target

Popis výsledku v původním jazyce

The article focuses on the study of growth conditions for metal coatings during the operation of magnetron sputtering systems with a liquid-phase target. It also discusses the trends of coating properties formation (in terms of copper example) depending on the growth conditions. The data of the experiments and calculations confirm that the appearance of intensive evaporation on the target surface allows increasingmore than 10 times the deposition rate and deposited particles flux density in comparison to conventional sputtering with a cooled solid target at the same magnetron power.

Název v anglickém jazyce

Features of copper coatings growth at high-rate deposition using magnetron sputtering systems with a liquid metal target

Popis výsledku anglicky

The article focuses on the study of growth conditions for metal coatings during the operation of magnetron sputtering systems with a liquid-phase target. It also discusses the trends of coating properties formation (in terms of copper example) depending on the growth conditions. The data of the experiments and calculations confirm that the appearance of intensive evaporation on the target surface allows increasingmore than 10 times the deposition rate and deposited particles flux density in comparison to conventional sputtering with a cooled solid target at the same magnetron power.

Druh

J_imp - Článek v periodiku v databázi Web of Science

CEP obor

—

OECD FORD obor

10302 - Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)

Projekt

Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

Návaznosti

I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Rok uplatnění

2017

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Surface and Coatings Technology

ISSN

0257-8972

e-ISSN

—

Svazek periodika

324

Číslo periodika v rámci svazku

Sep

Stát vydavatele periodika

CH - Švýcarská konfederace

Počet stran výsledku

10

Strana od-do

111-120

Kód UT WoS článku

000406988200014

EID výsledku v databázi Scopus

2-s2.0-85019666649