Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Features of copper coatings growth at high-rate deposition using magnetron sputtering systems with a liquid metal target

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F17%3A00478821" target="_blank" >RIV/68378271:_____/17:00478821 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

    <a href="http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2017.05.065" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2017.05.065</a>

  • DOI - Digital Object Identifier

    <a href="http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2017.05.065" target="_blank" >10.1016/j.surfcoat.2017.05.065</a>

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Features of copper coatings growth at high-rate deposition using magnetron sputtering systems with a liquid metal target

  • Popis výsledku v původním jazyce

    The article focuses on the study of growth conditions for metal coatings during the operation of magnetron sputtering systems with a liquid-phase target. It also discusses the trends of coating properties formation (in terms of copper example) depending on the growth conditions. The data of the experiments and calculations confirm that the appearance of intensive evaporation on the target surface allows increasingmore than 10 times the deposition rate and deposited particles flux density in comparison to conventional sputtering with a cooled solid target at the same magnetron power.

  • Název v anglickém jazyce

    Features of copper coatings growth at high-rate deposition using magnetron sputtering systems with a liquid metal target

  • Popis výsledku anglicky

    The article focuses on the study of growth conditions for metal coatings during the operation of magnetron sputtering systems with a liquid-phase target. It also discusses the trends of coating properties formation (in terms of copper example) depending on the growth conditions. The data of the experiments and calculations confirm that the appearance of intensive evaporation on the target surface allows increasingmore than 10 times the deposition rate and deposited particles flux density in comparison to conventional sputtering with a cooled solid target at the same magnetron power.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>imp</sub> - Článek v periodiku v databázi Web of Science

  • CEP obor

  • OECD FORD obor

    10302 - Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

  • Návaznosti

    I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2017

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Surface and Coatings Technology

  • ISSN

    0257-8972

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    324

  • Číslo periodika v rámci svazku

    Sep

  • Stát vydavatele periodika

    CH - Švýcarská konfederace

  • Počet stran výsledku

    10

  • Strana od-do

    111-120

  • Kód UT WoS článku

    000406988200014

  • EID výsledku v databázi Scopus

    2-s2.0-85019666649