Features of copper coatings growth at high-rate deposition using magnetron sputtering systems with a liquid metal target
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F17%3A00478821" target="_blank" >RIV/68378271:_____/17:00478821 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
<a href="http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2017.05.065" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2017.05.065</a>
DOI - Digital Object Identifier
<a href="http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2017.05.065" target="_blank" >10.1016/j.surfcoat.2017.05.065</a>
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Features of copper coatings growth at high-rate deposition using magnetron sputtering systems with a liquid metal target
Popis výsledku v původním jazyce
The article focuses on the study of growth conditions for metal coatings during the operation of magnetron sputtering systems with a liquid-phase target. It also discusses the trends of coating properties formation (in terms of copper example) depending on the growth conditions. The data of the experiments and calculations confirm that the appearance of intensive evaporation on the target surface allows increasingmore than 10 times the deposition rate and deposited particles flux density in comparison to conventional sputtering with a cooled solid target at the same magnetron power.
Název v anglickém jazyce
Features of copper coatings growth at high-rate deposition using magnetron sputtering systems with a liquid metal target
Popis výsledku anglicky
The article focuses on the study of growth conditions for metal coatings during the operation of magnetron sputtering systems with a liquid-phase target. It also discusses the trends of coating properties formation (in terms of copper example) depending on the growth conditions. The data of the experiments and calculations confirm that the appearance of intensive evaporation on the target surface allows increasingmore than 10 times the deposition rate and deposited particles flux density in comparison to conventional sputtering with a cooled solid target at the same magnetron power.
Klasifikace
Druh
J<sub>imp</sub> - Článek v periodiku v databázi Web of Science
CEP obor
—
OECD FORD obor
10302 - Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)
Návaznosti výsledku
Projekt
Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.
Návaznosti
I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace
Ostatní
Rok uplatnění
2017
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Surface and Coatings Technology
ISSN
0257-8972
e-ISSN
—
Svazek periodika
324
Číslo periodika v rámci svazku
Sep
Stát vydavatele periodika
CH - Švýcarská konfederace
Počet stran výsledku
10
Strana od-do
111-120
Kód UT WoS článku
000406988200014
EID výsledku v databázi Scopus
2-s2.0-85019666649