Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Localization effects in the disordered Ta interlayer of multilayer Ta–FeNi films: Evidence from dc transport and spectroscopic ellipsometry study

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F17%3A00481158" target="_blank" >RIV/68378271:_____/17:00481158 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

    <a href="http://dx.doi.org/10.1063/1.5009745" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1063/1.5009745</a>

  • DOI - Digital Object Identifier

    <a href="http://dx.doi.org/10.1063/1.5009745" target="_blank" >10.1063/1.5009745</a>

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Localization effects in the disordered Ta interlayer of multilayer Ta–FeNi films: Evidence from dc transport and spectroscopic ellipsometry study

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Using dc transport and wide-band spectroscopic ellipsometry techniques, we study localization effects in the disordered metallic Ta interlayer of different thicknesses in the multilayer films (MLFs) (Ta–FeNi)N grown by rf sputtering deposition. In the grown MLFs, the FeNi layer was 0.52 nm thick, while the Ta layer thickness varied between 1.2 and 4.6 nm. The Ta layer dielectric function was extracted from the Drude-Lorentz simulation. The dc transport study of the MLFs implies non-metallic (dρ/dT<0) behavior, with negative temperature coefficient of resistivity (TCR). The TCR absolute value increases upon increasing the Ta interlayer thickness, indicating enhanced electron localization. With that, the free charge carrier Drude response decreases. Moreover, the pronounced changes occur in the extended spectral range, involving the higher-energy Lorentz bands. The Drude dc conductivity drops below the weak localization limit for the thick Ta layer.n

  • Název v anglickém jazyce

    Localization effects in the disordered Ta interlayer of multilayer Ta–FeNi films: Evidence from dc transport and spectroscopic ellipsometry study

  • Popis výsledku anglicky

    Using dc transport and wide-band spectroscopic ellipsometry techniques, we study localization effects in the disordered metallic Ta interlayer of different thicknesses in the multilayer films (MLFs) (Ta–FeNi)N grown by rf sputtering deposition. In the grown MLFs, the FeNi layer was 0.52 nm thick, while the Ta layer thickness varied between 1.2 and 4.6 nm. The Ta layer dielectric function was extracted from the Drude-Lorentz simulation. The dc transport study of the MLFs implies non-metallic (dρ/dT<0) behavior, with negative temperature coefficient of resistivity (TCR). The TCR absolute value increases upon increasing the Ta interlayer thickness, indicating enhanced electron localization. With that, the free charge carrier Drude response decreases. Moreover, the pronounced changes occur in the extended spectral range, involving the higher-energy Lorentz bands. The Drude dc conductivity drops below the weak localization limit for the thick Ta layer.n

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>imp</sub> - Článek v periodiku v databázi Web of Science

  • CEP obor

  • OECD FORD obor

    10302 - Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    <a href="/cs/project/GA15-13778S" target="_blank" >GA15-13778S: Studium epitaxních jevů ve feroelektrických nanovrstvách pomocí spektrální elipsometrie</a><br>

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2017

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Applied Physics Letters

  • ISSN

    0003-6951

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    111

  • Číslo periodika v rámci svazku

    18

  • Stát vydavatele periodika

    US - Spojené státy americké

  • Počet stran výsledku

    5

  • Strana od-do

  • Kód UT WoS článku

    000414158500029

  • EID výsledku v databázi Scopus

    2-s2.0-85032988017