Vše
Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Interplay of electron correlations and localization in disordered ?-tantalum films: evidence from dc transport and spectroscopic ellipsometry study

Popis výsledku

Klíčová slova

diffusionabsence

Identifikátory výsledku

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Interplay of electron correlations and localization in disordered ?-tantalum films: evidence from dc transport and spectroscopic ellipsometry study

  • Popis výsledku v původním jazyce

    We report the dc transport (5K less than or similar to T less than or similar to 380 K) and spectroscopic ellipsometry (0.8 eV <= h nu <= 8.5 eV, T similar or equal to 300 K) study of beta-Ta films prepared by rf sputtering deposition as a function of their thickness in the range 2.5 nm less than or similar to d less than or similar to 200 nm. The dc transport of the beta-Ta films with a thickness d greater than or similar to 25 nm is characterized by negative temperature coefficient of resistivity (TCR) caused by localization effects peculiar of highly disordered metals. Their dielectric function spectra display non-metallic-like behavior due to the presence of the pronounced band at 2 eV. We found that with increasing TCR absolute value, specifying elevated degree disorder, the optical spectral weight (SW) of free charge carriers decreases.

  • Název v anglickém jazyce

    Interplay of electron correlations and localization in disordered ?-tantalum films: evidence from dc transport and spectroscopic ellipsometry study

  • Popis výsledku anglicky

    We report the dc transport (5K less than or similar to T less than or similar to 380 K) and spectroscopic ellipsometry (0.8 eV <= h nu <= 8.5 eV, T similar or equal to 300 K) study of beta-Ta films prepared by rf sputtering deposition as a function of their thickness in the range 2.5 nm less than or similar to d less than or similar to 200 nm. The dc transport of the beta-Ta films with a thickness d greater than or similar to 25 nm is characterized by negative temperature coefficient of resistivity (TCR) caused by localization effects peculiar of highly disordered metals. Their dielectric function spectra display non-metallic-like behavior due to the presence of the pronounced band at 2 eV. We found that with increasing TCR absolute value, specifying elevated degree disorder, the optical spectral weight (SW) of free charge carriers decreases.

Klasifikace

  • Druh

    Jimp - Článek v periodiku v databázi Web of Science

  • CEP obor

  • OECD FORD obor

    10302 - Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)

Návaznosti výsledku

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2015

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Applied Physics Letters

  • ISSN

    0003-6951

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    106

  • Číslo periodika v rámci svazku

    5

  • Stát vydavatele periodika

    US - Spojené státy americké

  • Počet stran výsledku

    5

  • Strana od-do

  • Kód UT WoS článku

    000349611800027

  • EID výsledku v databázi Scopus

    2-s2.0-84923902103

Druh výsledku

Jimp - Článek v periodiku v databázi Web of Science

Jimp

OECD FORD

Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)

Rok uplatnění

2015