Creation and behavior of radicals and ions in the Acetylene/Argon microwave ECR discharge

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F17%3A00485280" target="_blank" >RIV/68378271:_____/17:00485280 - isvavai.cz</a>

Nalezeny alternativní kódy

RIV/60461373:22340/17:43913692

Výsledek na webu

<a href="http://dx.doi.org/10.1002/ppap.201700062" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1002/ppap.201700062</a>

DOI - Digital Object Identifier

<a href="http://dx.doi.org/10.1002/ppap.201700062" target="_blank" >10.1002/ppap.201700062</a>

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Creation and behavior of radicals and ions in the Acetylene/Argon microwave ECR discharge

Popis výsledku v původním jazyce

Formation and number of molecules, radicals, and ions in ECR acetylene/argon discharge is studied as functions of gas flow rate, supplied power, and partial pressure of acetylene. The spectra obtained by neutral mass spectrometry (NMS) exhibit the presence of atomic hydrogen and H2 molecules. The quantity of acetylene ions is rather high in the range of power up to 350 W, but it drops down with increasing power. At higher powers, the change to C2H+ ion takes place and its quantity grows with increasing power. The dependence of the number of C2+, C2H+, C2H2+ on the electron energy is judged by appearance potential mass spectrometry in the energy range 0–100 eV. The obtained findings are useful for the technology of industrial preparation of DLC thin films.n

Název v anglickém jazyce

Creation and behavior of radicals and ions in the Acetylene/Argon microwave ECR discharge

Popis výsledku anglicky

Formation and number of molecules, radicals, and ions in ECR acetylene/argon discharge is studied as functions of gas flow rate, supplied power, and partial pressure of acetylene. The spectra obtained by neutral mass spectrometry (NMS) exhibit the presence of atomic hydrogen and H2 molecules. The quantity of acetylene ions is rather high in the range of power up to 350 W, but it drops down with increasing power. At higher powers, the change to C2H+ ion takes place and its quantity grows with increasing power. The dependence of the number of C2+, C2H+, C2H2+ on the electron energy is judged by appearance potential mass spectrometry in the energy range 0–100 eV. The obtained findings are useful for the technology of industrial preparation of DLC thin films.n

Druh

J_imp - Článek v periodiku v databázi Web of Science

CEP obor

—

OECD FORD obor

10302 - Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)

Projekt

Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2017

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Plasma Processes and Polymers

ISSN

1612-8850

e-ISSN

—

Svazek periodika

14

Číslo periodika v rámci svazku

12

Stát vydavatele periodika

DE - Spolková republika Německo

Počet stran výsledku

9

Strana od-do

—

Kód UT WoS článku

000417859300006

EID výsledku v databázi Scopus

2-s2.0-85022327181