A detailed investigation of radicals and ions in ECR methane/argon microwave discharge

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F16%3A00466137" target="_blank" >RIV/68378271:_____/16:00466137 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

<a href="http://dx.doi.org/10.1002/ppap.201500221" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1002/ppap.201500221</a>

DOI - Digital Object Identifier

<a href="http://dx.doi.org/10.1002/ppap.201500221" target="_blank" >10.1002/ppap.201500221</a>

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

A detailed investigation of radicals and ions in ECR methane/argon microwave discharge

Popis výsledku v původním jazyce

In this work, we focus on study of the formation and behavior of molecules, radicals, and ions in ECR discharge in a mixture of argon and methane. Discharge properties are studied at various conditions; total gas flow (0–50 sccm), absorbed microwave power (0–900 W) and the partial pressure of methane (0–1.2 Pa). Neutral mass spectrometry does not reveal the presence of radical CH5 commonly described in literature. Spectra show the presence of atomic hydrogen H and especially H2 molecules. The number of CH4 + and CH3 + species shows that the amount of CH4 + in areas power up to 350 W is high, but with further increase of the power their amount decreases. With the increasing power the CH3 + ons are more intensively generated. The obtained data helps optimize process conditions for the fabrication of diamond and DLC thin films.

Název v anglickém jazyce

A detailed investigation of radicals and ions in ECR methane/argon microwave discharge

Popis výsledku anglicky

In this work, we focus on study of the formation and behavior of molecules, radicals, and ions in ECR discharge in a mixture of argon and methane. Discharge properties are studied at various conditions; total gas flow (0–50 sccm), absorbed microwave power (0–900 W) and the partial pressure of methane (0–1.2 Pa). Neutral mass spectrometry does not reveal the presence of radical CH5 commonly described in literature. Spectra show the presence of atomic hydrogen H and especially H2 molecules. The number of CH4 + and CH3 + species shows that the amount of CH4 + in areas power up to 350 W is high, but with further increase of the power their amount decreases. With the increasing power the CH3 + ons are more intensively generated. The obtained data helps optimize process conditions for the fabrication of diamond and DLC thin films.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

OECD FORD obor

—

Projekt

Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

Návaznosti

I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Rok uplatnění

2016

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Plasma Processes and Polymers

ISSN

1612-8850

e-ISSN

—

Svazek periodika

13

Číslo periodika v rámci svazku

10

Stát vydavatele periodika

DE - Spolková republika Německo

Počet stran výsledku

11

Strana od-do

970-980

Kód UT WoS článku

000389205500003

EID výsledku v databázi Scopus

2-s2.0-84977127285