Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Doping of the hydrogen-passivated Si(100) electronic structure through carborane adsorption studied using density functional theory

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F21%3A00549123" target="_blank" >RIV/68378271:_____/21:00549123 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

    <a href="https://doi.org/10.1039/D1CP01654G" target="_blank" >https://doi.org/10.1039/D1CP01654G</a>

  • DOI - Digital Object Identifier

    <a href="http://dx.doi.org/10.1039/D1CP01654G" target="_blank" >10.1039/D1CP01654G</a>

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Doping of the hydrogen-passivated Si(100) electronic structure through carborane adsorption studied using density functional theory

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Adsorption of molecular materials with tailored chemical properties represents a new and promising avenue to non-destructively dope silicon. Dithiocarboranes possess large permanent dipoles and readily form stable monolayers on a variety of substrates. Here we use density functional theory to investigate the doping of hydrogen-passivated Si(100) substrates through the adsorption of dithiocarborane molecules. We find that dithiocarboranes can both physisorb and chemisorb on the substrate. Chemisorbed structures arise when a S atom in the molecular linker group replaces a surface H atom. We establish the formation of these Si-molecule bonds and characterize their mechanical and thermal stability. … Our work shows that molecular adsorbates having large electrostatic dipoles are a promising strategy to non-destructively dope semiconductor substrates.

  • Název v anglickém jazyce

    Doping of the hydrogen-passivated Si(100) electronic structure through carborane adsorption studied using density functional theory

  • Popis výsledku anglicky

    Adsorption of molecular materials with tailored chemical properties represents a new and promising avenue to non-destructively dope silicon. Dithiocarboranes possess large permanent dipoles and readily form stable monolayers on a variety of substrates. Here we use density functional theory to investigate the doping of hydrogen-passivated Si(100) substrates through the adsorption of dithiocarborane molecules. We find that dithiocarboranes can both physisorb and chemisorb on the substrate. Chemisorbed structures arise when a S atom in the molecular linker group replaces a surface H atom. We establish the formation of these Si-molecule bonds and characterize their mechanical and thermal stability. … Our work shows that molecular adsorbates having large electrostatic dipoles are a promising strategy to non-destructively dope semiconductor substrates.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>imp</sub> - Článek v periodiku v databázi Web of Science

  • CEP obor

    —

  • OECD FORD obor

    10302 - Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2021

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Physical Chemistry Chemical Physics

  • ISSN

    1463-9076

  • e-ISSN

    1463-9084

  • Svazek periodika

    23

  • Číslo periodika v rámci svazku

    36

  • Stát vydavatele periodika

    GB - Spojené království Velké Británie a Severního Irska

  • Počet stran výsledku

    9

  • Strana od-do

    20379-20387

  • Kód UT WoS článku

    000693175500001

  • EID výsledku v databázi Scopus

    2-s2.0-85115875836