Understanding pulsed laser deposition process of copper halides via plasma diagnostics techniques
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F21%3A00560691" target="_blank" >RIV/68378271:_____/21:00560691 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
<a href="https://doi.org/10.1063/5.0077082" target="_blank" >https://doi.org/10.1063/5.0077082</a>
DOI - Digital Object Identifier
<a href="http://dx.doi.org/10.1063/5.0077082" target="_blank" >10.1063/5.0077082</a>
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Understanding pulsed laser deposition process of copper halides via plasma diagnostics techniques
Popis výsledku v původním jazyce
Due to the raised interest in copper halides for optoelectronic applications, a wide range of plasma diagnostic tools based on Langmuir probe (LP) and optical emission spectroscopy (OES) were implemented to investigate the pulsed laser deposition (PLD) process of selected copper halides. This represents the first report of complete diagnostics of copper halide plasma generated by laser ablation. High plasma potential and electron temperature were observed by a time-resolved LP analysis, which affected the kinetic energy of the ejected ions during expansion. The effect of argon gas addition on the copper halide plasma dynamics was investigated. Angle-resolved measurements revealed a narrow cone plasma expansion with a dual peak charge particle distribution, which was affected only above 2 Pa of Ar atmosphere.
Název v anglickém jazyce
Understanding pulsed laser deposition process of copper halides via plasma diagnostics techniques
Popis výsledku anglicky
Due to the raised interest in copper halides for optoelectronic applications, a wide range of plasma diagnostic tools based on Langmuir probe (LP) and optical emission spectroscopy (OES) were implemented to investigate the pulsed laser deposition (PLD) process of selected copper halides. This represents the first report of complete diagnostics of copper halide plasma generated by laser ablation. High plasma potential and electron temperature were observed by a time-resolved LP analysis, which affected the kinetic energy of the ejected ions during expansion. The effect of argon gas addition on the copper halide plasma dynamics was investigated. Angle-resolved measurements revealed a narrow cone plasma expansion with a dual peak charge particle distribution, which was affected only above 2 Pa of Ar atmosphere.
Klasifikace
Druh
J<sub>imp</sub> - Článek v periodiku v databázi Web of Science
CEP obor
—
OECD FORD obor
10302 - Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)
Návaznosti výsledku
Projekt
Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.
Návaznosti
I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace
Ostatní
Rok uplatnění
2021
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Journal of Applied Physics
ISSN
0021-8979
e-ISSN
1089-7550
Svazek periodika
130
Číslo periodika v rámci svazku
24
Stát vydavatele periodika
US - Spojené státy americké
Počet stran výsledku
10
Strana od-do
243302
Kód UT WoS článku
000738923200004
EID výsledku v databázi Scopus
2-s2.0-85122366546