Chemická depozice diamantových tenkých vrstev z par plynů

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F22%3A00558458" target="_blank" >RIV/68378271:_____/22:00558458 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

čeština

Název v původním jazyce

Chemická depozice diamantových tenkých vrstev z par plynů

Popis výsledku v původním jazyce

Příprava diamantových vrstev a jejich (nano-) struktur vyžaduje zvládnutí více technologických kroků. V prvním kroku „diamantové technologie” je důležité aktivovat povrch nediamantové podložky vhodným procesem známým jako nukleace nebo zárodkování. Nejčastěji se jedná o proces pokrytí povrchu podložky (nano-) částicemi diamantu nebo aktivace povrchu podložky iontovým bombardováním. Druhým klíčovým krokem je samotný růst diamantové vrstvy tzv. chemickou depozicí z par plynů (tzv. „Chemical Vapor Deposition” - CVD) za nízkých tlaků (10 ÷ 10 000 Pa) a teplot v rozsahu 250 ÷ 1000 °C, která je nejčastěji realizována v plynné směsi metanu a vodíku v systému žhaveného vlákna nebo mikrovlnného plazmatu. V tomto příspěvku jsou oba technologické kroky, nukleace a růst, diskutovány se zřetelem aktuálních trendů a experimentálních aktivit probíhajících v laboratořích Fyzikálního ústavu AV ČR (FZÚ).n

Název v anglickém jazyce

Chemical deposition of diamond thin films from gas vapors

Popis výsledku anglicky

The preparation of diamond layers and their (nano-) structures requires the optimization of several technological steps. In the first step of “diamond technology” it is important to activate the surface of the non-diamond substrate by a suitable process known as nucleation or nucleation. The second key step is the growth of the diamond layer itself by chemical vapor deposition (CVD) under low pressures (10 ÷ 10,000 Pa) and temperatures in the range of 250 ÷ 1000 °C, and from a gas mixture of methane and hydrogen commonly used in a hot filament or microwave plasma CVD systems. In this paper, both technological steps, nucleation and growth, are discussed in light of current trends and experimental activities taking place in the laboratories of the Institute of Physics of the Academy of Sciences of the Czech Republic (FZÚ).

Druh

D - Stať ve sborníku

CEP obor

—

OECD FORD obor

20506 - Coating and films

Projekt

<a href="/cs/project/LM2018110" target="_blank" >LM2018110: Výzkumná infrastruktura CzechNanoLab</a><br>

Návaznosti

I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Rok uplatnění

2022

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku

Zpravodaj ČVS

ISBN

—

ISSN

1213-2705

e-ISSN

—

Počet stran výsledku

5

Strana od-do

11-15

Název nakladatele

Česká Vakuová Společnost

Místo vydání

Praha

Místo konání akce

Bítov

Datum konání akce

30. 5. 2022

Typ akce podle státní příslušnosti

EUR - Evropská akce

Kód UT WoS článku

—