Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Robust SrTiO3 passivation of silicon photocathode by reduced graphene oxide for solar water splitting

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F23%3A00576644" target="_blank" >RIV/68378271:_____/23:00576644 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

    <a href="https://hdl.handle.net/11104/0349481" target="_blank" >https://hdl.handle.net/11104/0349481</a>

  • DOI - Digital Object Identifier

    <a href="http://dx.doi.org/10.1021/acsami.3c07747" target="_blank" >10.1021/acsami.3c07747</a>

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Robust SrTiO3 passivation of silicon photocathode by reduced graphene oxide for solar water splitting

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Development of a robust photocathode using lowcost and high-performing materials to produce clean fuel hydrogen has remained challenging since the semiconductor substrate is easily susceptible to (photo)corrosion under photoelectrochemical (PEC) operational conditions. A protective layer over the substrate to simultaneously provide corrosion resistance and maintain efficient charge transfer across the device is therefore needed. To this end, in the present work, we utilized pulsed laser deposition (PLD) to prepare a high-quality SrTiO3 (STO) layer to passivate the p-Si substrate using a buffer layer of reduced graphene oxide (rGO). The stability tests demonstrated the soundness of the epitaxial STO layer in passivating Si against corrosion. This study provided a facile approach for preparing a robust protection layer over a photoelectrode substrate in realizing an efficient and, at the same time, durable PEC device.

  • Název v anglickém jazyce

    Robust SrTiO3 passivation of silicon photocathode by reduced graphene oxide for solar water splitting

  • Popis výsledku anglicky

    Development of a robust photocathode using lowcost and high-performing materials to produce clean fuel hydrogen has remained challenging since the semiconductor substrate is easily susceptible to (photo)corrosion under photoelectrochemical (PEC) operational conditions. A protective layer over the substrate to simultaneously provide corrosion resistance and maintain efficient charge transfer across the device is therefore needed. To this end, in the present work, we utilized pulsed laser deposition (PLD) to prepare a high-quality SrTiO3 (STO) layer to passivate the p-Si substrate using a buffer layer of reduced graphene oxide (rGO). The stability tests demonstrated the soundness of the epitaxial STO layer in passivating Si against corrosion. This study provided a facile approach for preparing a robust protection layer over a photoelectrode substrate in realizing an efficient and, at the same time, durable PEC device.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>imp</sub> - Článek v periodiku v databázi Web of Science

  • CEP obor

  • OECD FORD obor

    10302 - Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    <a href="/cs/project/GF21-20110K" target="_blank" >GF21-20110K: Heterostruktury s přechodem polovodič - dielektrikum pro fotoelektrolýzu vody</a><br>

  • Návaznosti

    I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2023

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    ACS Applied Materials and Interfaces

  • ISSN

    1944-8244

  • e-ISSN

    1944-8252

  • Svazek periodika

    15

  • Číslo periodika v rámci svazku

    37

  • Stát vydavatele periodika

    US - Spojené státy americké

  • Počet stran výsledku

    11

  • Strana od-do

    44482-44492

  • Kód UT WoS článku

    001066517500001

  • EID výsledku v databázi Scopus

    2-s2.0-85171900524